[發明專利]一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法有效
| 申請號: | 202011362536.X | 申請日: | 2020-11-28 |
| 公開(公告)號: | CN112609208B | 公開(公告)日: | 2022-07-29 |
| 發明(設計)人: | 田軍 | 申請(專利權)人: | 歐之萌(武漢)國際貿易有限公司 |
| 主分類號: | C25C5/02 | 分類號: | C25C5/02;C25C7/06;C25C7/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 長沙心智力知識產權代理事務所(普通合伙) 43233 | 代理人: | 鄭志德 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電解 制備 濃度 納米 抗菌 噴霧 方法 | ||
1.一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)將含有濃度為10 ppm~200 ppm穩定劑的流動相反應水溶液持續不斷注入至電解銀反應裝置的流動電解池(3)內;
2)開啟電解銀反應裝置開關,流動相反應水溶液以5 mL/min~10 mL/min流速通入反應器,并于2 V~5 V電壓范圍內、0.001 A~0.01 A的恒電流范圍內以及10 ℃~40 ℃溫度范圍內進行低電流密度條件下以1 mL/min~10 mL/min的流速緩慢流動并電解,電解銀反應器的銀陽極作為犧牲陽極釋放出銀離子,隨之銀離子擴散至陰極并被還原成納米銀,重新溶解進入水溶液中隨電解液繼續流動,每間隔10s~60s交換依次電解銀反應裝置的電流方向;
3)不斷由電解銀反應裝置的出料池(6)處得到低濃度納米銀水溶液,并每間隔1 h~6h進行采樣,檢測其中銀離子的有效濃度;
4)若在出料池(6)處收集到的納米銀水溶液濃度不夠,則通過電解銀反應裝置的再循環管道(7)將上述納米銀水溶液再次引入流動電解池(3)進行再次電解;
5)直至老化結束后,納米銀水溶液分裝在藥用級琥珀色玻璃品包裝以避光保存,增強其穩定性,得到低濃度納米銀抗菌噴霧劑;
電解銀反應裝置包括進料池(1)、流動電解池(3)、直流電源(4)、出料池(6)和再循環管道(7),進料池(1)與流動電解池(3)的進料口(3-1)通過進料管(1-1)連通,流動電解池的出料口(3-2)與出料池通過出料管(6-1)連通,進料管(1-1)上設置有流動泵(2),再循環管道(7)將出料池(6)與流動泵(2)連通;
流動電解池(3)內設置有銀陰極(3-3)和銀陽極(3-4),銀陰極(3-3)與銀陽極(3-4)上均相對設置有若干個迷路隔板(3-5)形成相互穿插的迷路堆疊通道(3-6),迷路堆疊通道(3-6)延長了流動電解池(3)內的微流體電解的面積,銀陽極(3-4)與銀陰極(3-3)分別與直流電源(4)正負極相連接;直流電源(4)間隔交換直流電方向,以保證銀陰極(3-3)與銀陽極(3-4)的電極片均勻參與電解過程。
2.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,穩定劑中包括質量分數比為50:30:20的檸檬酸鈉、聚乙烯吡咯烷酮和聚乙烯醇。
3.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,穩定劑在流動相反應水溶液中的濃度為10 ppm~100 ppm。
4.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,流動相溶液的超純水為于25 ℃下的電阻率為18 MΩ*cm的超純水。
5.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,電解銀反應裝置的電壓越大,得到的抗菌噴霧劑中納米銀的粒徑越大,所述抗菌噴霧劑中納米銀的粒徑為10 nm~50 nm。
6.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,每個迷路隔板(3-5)由聚四氟乙烯加工制備而成具有半圓形截面的半圓柱狀體,進而形成圓形凹槽用于固定。
7.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,迷路隔板長為50 mm,寬為50 mm,厚度為1.0 mm,每個迷路隔板(3-5)的半圓形截面直徑為4.0mm。
8.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,銀陰極(3-3)上的一個迷路隔板與銀陽極(3-4)上的一個迷路隔板之間形成一組迷走隔板孔道(3-61),多組迷走隔板孔道(3-61)形成蛇形分布迷路堆疊通道(3-6);迷走隔板孔道(3-61)的長度為200 mm,寬度為4.0 mm。
9.根據權利要求1的一種電解制備低濃度納米銀抗菌噴霧劑的方法,其特征在于,銀陰極(3-3)與銀陽極(3-4)采用的銀片純度為99.99%~99.999%,直徑為2mm~5mm的銀電極,銀陰極(3-3)與銀陽極(3-4)之間的間距為2 mm~10 mm,電解銀反應裝置的容積為1L~10L。
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