[發(fā)明專利]一種自動上料全方位閥片拋光方法

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• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112496872A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發(fā)明（設計）人: 曹宏梅;汪銳
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥德捷節(jié)能環(huán)保科技有限公司
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B29/02;B24B27/00;B24B41/00;B24B41/06;B24B41/04
• 代理公司: 六安眾信知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 34123
• 代理人: 魯曉瑞

本發(fā)明公開了一種自動上料全方位閥片拋光方法，該方法包括以下步驟：S1、將閥片放置到上料機構(gòu)上進行自動上料；S2、上料機構(gòu)將閥片輸送到拋光機構(gòu)處依次對閥片的側(cè)面、上面和下面進行拋光；S3、將拋光后的閥片取出完成出料；本方法采用的拋光機構(gòu)和上料機構(gòu)包括殼體，所述殼體上設置有轉(zhuǎn)運機構(gòu)；所述上料機構(gòu)還包括儲料筒，所述儲料筒上開設有上料腔；所述轉(zhuǎn)運機構(gòu)還包括轉(zhuǎn)運盤，所述轉(zhuǎn)運盤上開設有與上料腔相匹配的轉(zhuǎn)運槽；所述拋光機構(gòu)還包括下支撐臺和上支撐臺；本發(fā)明通過上料機構(gòu)進行自動上料，節(jié)省人力，并且效率較高，自動對閥片的多方位進行打磨拋光，極大的提高的打磨效率和打磨效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及閥片加工技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種自動上料全方位閥片拋光方法。

背景技術(shù)

閥片是控制液體通過以降低其壓力或改變其流量及流動方向的裝置，閥片需要很強擁有很強的密封效果，閥片通過強沖加工成成品，加工成品后的閥片周圍會有毛刺，毛刺會影響密封效果，并且閥片的上下端面也會出現(xiàn)些許瑕疵，需要對其進行打磨拋光處理，包裝其表面和側(cè)面的光滑程度，但是由于現(xiàn)有的拋光工序效率較低，需要多次進行拋光才能將閥片進行加工完畢，并且對于閥片的側(cè)面不方便進行打磨，并且上料也為人工進行上料，十分不便，影響加工效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的主要目的在于提供一種自動上料全方位閥片拋光方法，可以有效解決背景技術(shù)中的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：一種自動上料全方位閥片拋光方法，該方法包括以下步驟：S1、將閥片放置到上料機構(gòu)上進行自動上料；S2、上料機構(gòu)將閥片輸送到拋光機構(gòu)處依次對閥片的側(cè)面、上面和下面進行拋光；S3、將拋光后的閥片取出完成出料；本方法采用的拋光機構(gòu)和上料機構(gòu)包括殼體，所述殼體上設置有轉(zhuǎn)運機構(gòu)；所述上料機構(gòu)還包括儲料筒，所述儲料筒上開設有上料腔，所述上料腔的底部滑動連接有上料頂板；所述轉(zhuǎn)運機構(gòu)還包括轉(zhuǎn)運盤，所述轉(zhuǎn)運盤上開設有與上料腔相匹配的轉(zhuǎn)運槽，所述轉(zhuǎn)運盤與上料腔的頂部轉(zhuǎn)動連接；所述拋光機構(gòu)還包括下支撐臺和上支撐臺，所述下支撐臺與轉(zhuǎn)運槽對應位移依次設置有側(cè)拋光腔、上拋光腔和下拋光腔，所述側(cè)拋光腔的一側(cè)轉(zhuǎn)動連接有側(cè)拋光輪，所述上拋光腔的頂部位于上支撐臺處安裝有上拋光盤，所述下拋光腔的底部安裝有下拋光盤。

優(yōu)選的，所述儲料筒上貫穿設置有多個上料腔，且所述儲料筒的底部放置有支撐底板，所述上料頂板的底部安裝有第一電動伸縮桿。

優(yōu)選的，所述儲料筒與下支撐臺通過卡槽內(nèi)嵌設置，且與下支撐臺轉(zhuǎn)動連接，所述儲料筒的底部安裝有第一驅(qū)動電機。

優(yōu)選的，所述上支撐臺位于側(cè)拋光腔和下拋光腔的上方均設置有固定機構(gòu)，且所述下支撐臺位于上拋光腔的底部設置有相同的固定機構(gòu)。

優(yōu)選的，所述固定機構(gòu)包括固定筒，所述固定筒的端面插接設置有多個支撐頂桿，所述支撐頂桿與固定筒的內(nèi)腔之間安裝有支撐彈簧，所述支撐頂桿遠離固定筒的一端安裝有橡膠頭。

優(yōu)選的，位于所述側(cè)拋光腔處固定機構(gòu)的頂部安裝有第二驅(qū)動電機，所述側(cè)拋光腔的底部轉(zhuǎn)動連接有支撐盤。

優(yōu)選的，所述上拋光腔設置有兩個，且分別為粗上拋光腔和細上拋光腔，位于所述粗上拋光腔處的上拋光盤為粗拋光盤，位于所述細上拋光腔處的上拋光盤為細拋光盤。

優(yōu)選的，所述下拋光腔設置有兩個，且分別為粗下拋光腔和細下拋光腔，位于所述粗下拋光腔處的下拋光盤為粗下拋光盤，位于所述細下拋光腔處的下拋光盤為細下拋光盤。

優(yōu)選的，所述下支撐臺的一側(cè)設置有下料機構(gòu)，所述下料機構(gòu)位于轉(zhuǎn)運槽的下方。

優(yōu)選的，所述下支撐臺位于下料機構(gòu)處開設有下料槽，所述下料槽的處安裝有支撐框，所述支撐框上安裝有下料輸送帶。

與傳統(tǒng)技術(shù)相比，本發(fā)明產(chǎn)生的有益效果是：