[發(fā)明專利]水質(zhì)參數(shù)的監(jiān)測方法、裝置、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011359600.9 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112577909A | 公開(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于彩虹;梁敏勇;鄧家春;崔厚欣;尚永昌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 河北先河環(huán)保科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/25 | 分類號(hào): | G01N21/25;G01N21/47 |
| 代理公司: | 河北國維致遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 13137 | 代理人: | 張一 |
| 地址: | 050035 河北*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 水質(zhì) 參數(shù) 監(jiān)測 方法 裝置 設(shè)備 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種水質(zhì)參數(shù)的監(jiān)測方法,其特征在于,包括:
獲取預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)目標(biāo)水域的高光譜反射率圖像,以及在所述預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)采集的所述目標(biāo)水域的多個(gè)水體樣本的第一水質(zhì)參數(shù);
計(jì)算所述高光譜反射率圖像中所有像元的水體指數(shù)值,并將水體指數(shù)值大于預(yù)設(shè)閾值的像元確定為水體像元;
根據(jù)水質(zhì)參數(shù)經(jīng)驗(yàn)?zāi)P?,?jì)算所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù);
將所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù)設(shè)置為第一數(shù)值;其中,所述第一數(shù)值為所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù)與預(yù)設(shè)比例的乘值,所述預(yù)設(shè)比例為目標(biāo)水體樣本的第一水體參數(shù)的數(shù)值與第一目標(biāo)水體像元的第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值的比例,所述目標(biāo)水體樣本的采樣點(diǎn)與所述第一目標(biāo)水體像元對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)相同;
根據(jù)當(dāng)前的所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù),生成所述目標(biāo)水域的水質(zhì)參數(shù)監(jiān)測信息。
2.如權(quán)利要求1所述的水質(zhì)參數(shù)的監(jiān)測方法,其特征在于,在所述根據(jù)當(dāng)前的所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù),生成所述目標(biāo)水域的水質(zhì)參數(shù)監(jiān)測信息之前,所述方法還包括:
將第二目標(biāo)水體像元的第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值設(shè)置為第一預(yù)設(shè)數(shù)值,將第三目標(biāo)水體像元的第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值設(shè)置為第二預(yù)設(shè)數(shù)值,所述第一預(yù)設(shè)數(shù)值大于所述第二預(yù)設(shè)數(shù)值;
其中,所述第二目標(biāo)水體像元為所述第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值大于所述第一預(yù)設(shè)數(shù)值的所述水體像元,所述第三目標(biāo)水體像元為所述第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值小于所述第二預(yù)設(shè)數(shù)值的所述水體像元。
3.如權(quán)利要求1或2所述的水質(zhì)參數(shù)的監(jiān)測方法,其特征在于,所述獲取預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)目標(biāo)水域的高光譜反射率圖像,包括:
通過控制搭載高光譜儀的無人機(jī)按照預(yù)設(shè)航線飛行,獲取所述預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)所述目標(biāo)水域的第一初始圖像數(shù)據(jù);
根據(jù)所述無人機(jī)的經(jīng)緯度、高程、翻轉(zhuǎn)角、俯仰角、偏航度,對(duì)所述第一初始圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行校正,得到所述目標(biāo)水域的高光譜反射率圖像。
4.如權(quán)利要求1或2所述的水質(zhì)參數(shù)的監(jiān)測方法,其特征在于,所述獲取預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)目標(biāo)水域的高光譜反射率圖像,包括:
通過布置在所述目標(biāo)水域的預(yù)設(shè)位置的搭載高光譜儀的塔基平臺(tái),獲取所述預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)所述目標(biāo)水域的第二初始圖像數(shù)據(jù);
根據(jù)所述塔基平臺(tái)的衛(wèi)星定位位置,對(duì)所述第二初始圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行校正,得到所述目標(biāo)水域的高光譜反射率圖像。
5.一種水質(zhì)參數(shù)的監(jiān)測裝置,其特征在于,包括:
獲取模塊,用于獲取預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)目標(biāo)水域的高光譜反射率圖像,以及在所述預(yù)設(shè)時(shí)段內(nèi)采集的所述目標(biāo)水域的多個(gè)水體樣本的第一水質(zhì)參數(shù);
確定模塊,用于計(jì)算所述高光譜反射率圖像中所有像元的水體指數(shù)值,并將水體指數(shù)值大于預(yù)設(shè)閾值的像元確定為水體像元;
計(jì)算模塊,用于根據(jù)水質(zhì)參數(shù)經(jīng)驗(yàn)?zāi)P?,?jì)算所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù);
第一設(shè)置模塊,用于將所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù)設(shè)置為第一數(shù)值;其中,所述第一數(shù)值為所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù)與預(yù)設(shè)比例的乘值,所述預(yù)設(shè)比例為目標(biāo)水體樣本的第一水體參數(shù)的數(shù)值與第一目標(biāo)水體像元的第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值的比例,所述目標(biāo)水體樣本的采樣點(diǎn)與所述第一目標(biāo)水體像元對(duì)應(yīng)的采樣點(diǎn)相同;
生成模塊,用于根據(jù)當(dāng)前的所有所述水體像元各自的第二水質(zhì)參數(shù),生成所述目標(biāo)水域的水質(zhì)參數(shù)監(jiān)測信息。
6.如權(quán)利要求5所述的水質(zhì)參數(shù)的監(jiān)測裝置,其特征在于,所述裝置還包括第二設(shè)置模塊,用于:
將第二目標(biāo)水體像元的第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值設(shè)置為第一預(yù)設(shè)數(shù)值,將第三目標(biāo)水體像元的第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值設(shè)置為第二預(yù)設(shè)數(shù)值,所述第一預(yù)設(shè)數(shù)值大于所述第二預(yù)設(shè)數(shù)值;
其中,所述第二目標(biāo)水體像元為所述第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值大于所述第一預(yù)設(shè)數(shù)值的所述水體像元,所述第三目標(biāo)水體像元為所述第二水質(zhì)參數(shù)的數(shù)值小于所述第二預(yù)設(shè)數(shù)值的所述水體像元。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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