[發明專利]噴氣盤及應用其的霧化制粉系統

有效

• 申請號: 202011358670.2
• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112453415B
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發明（設計）人: 宗偉;陳衛紅;王策;胡麗紅
• 申請（專利權）人: 佛山市中研非晶科技股份有限公司
• 主分類號: B22F9/08
• 分類號: B22F9/08
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 譚健洪;莫瑤江

1.用于制備非晶粉末的霧化制粉系統的噴氣盤，其特征在于：包括殼體，所述殼體內設置有相互連通的進氣通道和氣流通道，氣流沿進氣通道和氣流通道的導向方向作周向運動，所述氣流通道為環狀結構，排氣通道連通至氣流通道的內圓壁，進氣通道均布布置在氣流通道的周向并與氣流通道的外圓壁相切連接；所述氣流通道連通有多個排氣通道，各排氣通道向氣流運動所繞中軸線的方向并向殼體的下方延伸；所述排氣通道的水平投影傾斜于氣流周向運動方向的徑向，且相鄰排氣通道的水平投影的傾斜方向相同；所述排氣通道上設置有開口朝下的噴氣孔，各噴氣孔均位于同一水平面上并處于同一圓周路徑上，各噴氣孔所在圓周路徑的水平投影與氣流通道的水平投影同心設置；氣流在離開噴氣孔后能夠沿單葉雙曲線軌跡運動。

2.根據權利要求1所述的噴氣盤，其特征在于：所述排氣通道圍繞氣流運動所繞的中軸線均勻布置。

3.根據權利要求1所述的噴氣盤，其特征在于：所述排氣通道與氣流通道連通之處設置有排氣孔，所述排氣孔與噴氣孔一一對應連通；所述排氣孔與對應連通的噴氣孔之間形成有相位角α，α的數值在0～π/2的范圍內。

4.根據權利要求1所述的噴氣盤，其特征在于：所述排氣通道設置在殼體內。

5.根據權利要求1所述的噴氣盤，其特征在于：所述殼體外設置有多個排氣管道，各排氣管道內設置有排氣通道。

6.一種應用權利要求1至5任一所述噴氣盤的霧化制粉系統，其特征在于：包括用于承裝鋼液的耐熱容器和噴氣盤；該耐熱容器的底部設置有朝向噴氣孔圓周路徑的導流管；所述噴氣盤設置在導流管的下方；所述噴氣盤上設置有過液通孔，該過液通孔朝導流管方向設置。