[發明專利]一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置

在審

• 申請號: 202011357028.2
• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112267101A
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: 靳偉;余海春;戴秀海
• 申請（專利權）人: 光馳科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 上海申蒙商標專利代理有限公司 31214
• 代理人: 周宇凡

1.一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述濺射成膜裝置包括進出片室、鍍膜室、搬運室以及外部基片架，其中所述搬運室設置在所述進出片室和所述鍍膜室之間，所述搬運室內部設置有基片基片真空搬運系統，所述基片真空搬運系統用于實現所述進出片室和所述鍍膜室之間的基片交換，所述進出片室和所述外部基片架之間通過外部機械手實現基片交換。

2.根據權利要求1所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述進出片室和所述鍍膜室內設置有轉架系統，其中所述轉架系統可驅動所述基片公轉、自轉或同時公自轉。

3.根據權利要求2所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜系統，其特征在于：位于所述鍍膜室的所述轉架系統包括轉架、固定大齒輪以及傳輸齒輪，所述固定大齒輪與所述傳輸齒輪相傳動配合，其中所述轉架用于裝載所述基片，所述固定大齒輪用于驅動所述轉架旋轉以實現所述基片的公轉，所述傳輸齒輪用于實現所述基片的自轉。

4.根據權利要求1所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述基片真空搬運系統包括前后推進模組、旋轉模組、兩個取片機構，兩個所述取片機構與所述前后推進模組相連接并可在所述前后推進模組的驅動下前后推進，所述旋轉模組連接所述前后推進模組并可通過驅動所述兩個取片機構旋轉，進而實現所述進出片室和所述鍍膜室之間的基片交換。

5.根據權利要求1所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述進出片室和所述鍍膜室分別獨立連接有真空泵，且所述進出片室和所述鍍膜室內分別設置有濺射鍍膜工藝單元。

6.根據權利要求5所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：布置在所述鍍膜室內的濺射鍍膜工藝單元包括感應耦合等離子體、濺射陰極單元；布置在所述進出片室內的濺射鍍膜工藝單元包括加熱單元、等離子體源以及防污膜源中的一種或兩種及以上的組合。

7.根據權利要求1所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述進出片室和所述鍍膜室之間設置有可啟閉的真空插板閥，所述真空插板閥控制所述進出片室和所述鍍膜室之間的連通狀態。

8.根據權利要求1所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述濺射成膜裝置還包括系統冷卻水單元，自動化控制柜，其中所述系統冷卻水單元用于提供冷卻水，所述自動化控制柜用于集成所述濺射成膜裝置的控制系統。

9.根據權利要求7所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述系統冷卻水單元、所述自動化控制柜以及鍍膜室集成固定在一設備架臺上，進出片室和搬運室集成固定在另一設備架臺上。

10.根據權利要求1所述的一種連續式的公自轉結構的自動搬運濺射成膜裝置，其特征在于：所述外部基片架為可旋轉的基片轉架，所述基片轉架上的基片裝載位是沿其旋轉方向逐一布置的。