[發(fā)明專利]隱私膜和包括該隱私膜的顯示裝置

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• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112987381A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李錫虎;金秀蓮;金誠一
• 申請（專利權(quán)）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335;G02F1/1334;G02F1/1343;G02F1/13
• 代理公司: 北京律誠同業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國

1.一種隱私膜，包括：

光收集器，所述光收集器包括彼此間隔布置的多個第一光阻擋圖案；

粘合劑層，所述粘合劑層設(shè)置在所述光收集器上并且在與所述多個第一光阻擋圖案重疊的至少一部分中包括至少一個第一溝槽；和

光散射器，所述光散射器設(shè)置在所述粘合劑層上并且包括多個膠囊。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隱私膜，其中所述光收集器包括：

第一基板；

設(shè)置在所述第一基板上的第一光收集層；和

設(shè)置在所述第一光收集層中的所述多個第一光阻擋圖案。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的隱私膜，其中所述第一光收集層的一個表面和所述多個第一光阻擋圖案中的至少一個第一光阻擋圖案的一個表面接觸所述粘合劑層。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的隱私膜，其中所述第一光收集層包括彼此間隔的多個第一容納部，并且所述多個第一光阻擋圖案中的至少一個第一光阻擋圖案設(shè)置在所述多個第一容納部中的至少一個第一容納部中。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的隱私膜，其中所述多個第一容納部中的所述至少一個第一容納部的高度對應于所述多個第一光阻擋圖案中的所述至少一個第一光阻擋圖案的高度。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的隱私膜，進一步包括設(shè)置在所述第一光收集層上的第二光收集層，

其中所述第二光收集層包括彼此間隔的多個第二容納部，并且在所述多個第二容納部中的至少一個第二容納部中設(shè)置多個第二光阻擋圖案中的至少一個第二光阻擋圖案。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的隱私膜，其中所述多個第二光阻擋圖案沿與其中所述多個第一光阻擋圖案延伸的方向相交的方向延伸，并且

其中所述粘合劑層的所述至少一個第一溝槽位于其中所述多個第一光阻擋圖案中的所述至少一個第一光阻擋圖案與所述多個第二光阻擋圖案中的所述至少一個第二光阻擋圖案彼此重疊的區(qū)域中。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隱私膜，其中所述粘合劑層包括至少一個第二溝槽，所述至少一個第二溝槽與所述至少一個第一溝槽重疊并且位于所述至少一個第一溝槽下方。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的隱私膜，其中在所述粘合劑層的所述至少一個第一溝槽與所述至少一個第二溝槽之間設(shè)置至少一個連接部，并且

其中所述至少一個連接部與所述多個第一光阻擋圖案中的至少一個第一光阻擋圖案重疊。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的隱私膜，其中空氣間隙位于所述至少一個第一溝槽和所述至少一個第二溝槽中。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的隱私膜，其中所述至少一個第一溝槽和所述至少一個第二溝槽的寬度等于或小于所述多個第一光阻擋圖案中的至少一個第一光阻擋圖案的最大寬度。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隱私膜，其中所述光散射器包括：

設(shè)置在所述粘合劑層上的第二基板；

設(shè)置在所述第二基板上的第一電極；

設(shè)置在所述第一電極上并且包括多個膠囊的光散射層；

設(shè)置在所述光散射層上的第二電極；和

設(shè)置在所述第二電極上的第三基板。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的隱私膜，其中所述多個膠囊包括基體和所述基體中包括的多個顆粒，

其中所述多個顆粒中的至少一個顆粒是具有各向異性介電常數(shù)和各向異性折射率的分子，并且

其中當電壓未施加到所述隱私膜時，所述至少一個顆粒的折射率不同于所述基體的折射率，并且當電壓施加到所述隱私膜時，所述至少一個顆粒的折射率對應于所述基體的折射率。