[發(fā)明專利]具備可變溫度調節(jié)裝置的金屬氧化物電子束蒸發(fā)源有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011355840.1 | 申請日: | 2020-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN113388816B | 公開(公告)日: | 2023-06-20 |
| 發(fā)明(設計)人: | 崔范浩;李承洙;曹永根;金龍植 | 申請(專利權)人: | TOS株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30;C23C14/08;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京青松知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 鄭青松 |
| 地址: | 韓國京畿道烏山市*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具備 可變 溫度 調節(jié) 裝置 金屬 氧化物 電子束 蒸發(fā) | ||
1.一種具備可變溫度調節(jié)裝置的金屬氧化物電子束蒸發(fā)源,包括:
坩堝,其保管由電子束直接注射的金屬氧化物構成的沉積物質,其中所述金屬氧化物由氧化鋅系列金屬氧化物半導體物質或者氧化鈦、氧化鉭、氧化鋯構成;
N個加熱部,其具備在所述坩堝的外側部,將所述坩堝區(qū)分為N個區(qū)域并分別具備在所述N個區(qū)域,并且所述N個加熱部包括:第一加熱部,具備在所述坩堝外側部的上側并加熱第一區(qū)域;第二加熱部,具備在所述坩堝外側部的下側并加熱第二區(qū)域;及第三加熱部,具備在所述坩堝下部面并加熱第三區(qū)域;
檢查部,其檢測由所述金屬氧化物構成的沉積物質隨著電子束的注射而變化的模樣;
控制部,其為了減小電子束注射區(qū)域和未注射區(qū)域的溫度差而控制所述N個加熱部,使所述坩堝的上部區(qū)域比下部區(qū)域維持更高的溫度,
所述控制部通過控制所述N個加熱部,使得所述N個區(qū)域的各區(qū)域之間的溫度差值保持在設定溫度以下而不產生大的熱應力,從而防止所述沉積物質發(fā)生裂縫現象,
所述控制部將所述第一加熱部的溫度控制為第一溫度,將所述第二加熱部的溫度控制為第二溫度,將所述第三加熱部的溫度控制為第三溫度,所述第一溫度、所述第二溫度以及所述第三溫度得溫度差值為設定溫度以下,
所述控制部通過控制所述N個加熱部,使得當由所述檢查部檢測的所述沉積物質的模樣變成處于所述第一加熱部下方時,關閉所述第一加熱部,將所述第二加熱部的溫度控制為第一溫度,將第三加熱部的溫度控制為第二溫度,之后當由所述檢查部檢測的所述沉積物質的模樣變成處于所述第二加熱部下方時,關閉所述第一加熱部和所述第二加熱部,將所述第三加熱部的溫度控制為第一溫度,從而使所述N個區(qū)域的各區(qū)域的溫度根據所述沉積物質變化的模樣而依次變化,
還包括容器,所述容器包裹所述坩堝的外側部,且在內部具備所述N個加熱部及所述控制部。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





