[發明專利]硒化鎘類單晶薄膜制備方法、太陽能電池制備方法及產物有效
| 申請號: | 202011355151.0 | 申請日: | 2020-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN112490298B | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發明(設計)人: | 唐江;李康華;陳超;牛廣達;林雪甜;盧岳;楊許可 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | H01L31/0216 | 分類號: | H01L31/0216;H01L31/0296;H01L31/18 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硒化鎘類單晶 薄膜 制備 方法 太陽能電池 產物 | ||
1.一種太陽能電池制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
(T1)將導電基底加熱至第一預設溫度并維持第一預設時間;以硒化鎘粉末為蒸發源,將所述蒸發源加熱至第二預設溫度后,利用快速熱蒸發法在所述導電基底上沉積得到晶體取向單一的硒化鎘薄膜,活化其中的硒化鎘薄膜;所述第二預設溫度為800~850 ℃,所述第一預設時間不少于15min;
(T2)在所述硒化鎘薄膜的表面旋涂一層高分子空穴收集層;
(T3)在所述高分子空穴收集層的表面旋涂一層Cu基空穴收集層;
(T4)在所述Cu基空穴收集層的表面沉積頂電極,從而完成所述太陽能電池的制備;
其中,所述第一預設溫度為300~450°C,且利用快速熱蒸發法在所述導電基底上沉積硒化鎘薄膜的蒸發時間為50~100s,制備過程中,氣壓不高于1Pa;
或者,所述第一預設溫度為0~300 ℃。
2.如權利要求1所述的太陽能電池制備方法,其特征在于,所述高分子空穴收集層的材料為PEDOT:PSS或P3HT,所述Cu基空穴收集層的材料為CuI、Cu2O或CuSCN,所述頂電極的材料為Au或ITO。
3.如權利要求1或2所述的太陽能電池制備方法制備得到的太陽能電池。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





