[發(fā)明專利]一種節(jié)水型硅片切割生產(chǎn)清洗設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011350358.9
• 申請日: 2020-11-27
• 公開（公告）號: CN112588669B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 龐潔;曾宇;陳梅紅
• 申請（專利權(quán)）人: 江門市冠合有機硅材料有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;B08B3/04;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 合肥市科融知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 34126
• 代理人: 劉冉

本發(fā)明公開了硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域的一種節(jié)水型硅片切割生產(chǎn)清洗設(shè)備，包括清洗部和節(jié)水部，清洗部包括清洗箱，清洗箱內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有一組內(nèi)輥，內(nèi)輥之間套有安裝帶，安裝帶側(cè)壁固定連接有硅片架，硅片架前端轉(zhuǎn)動連接有彈性擋輥，硅片架與清洗箱內(nèi)壁滑動連接，清洗箱兩側(cè)分別開設(shè)有進料窗和出料窗，節(jié)水部包括底部沉淀箱，底部沉淀箱頂部固定連接有清洗沉淀箱，清洗沉淀箱中間滑動連接有活動封底，清洗沉淀箱頂部固定連接有清水箱，清洗沉淀箱與清水箱之間連通有過濾管，清水箱與清洗箱內(nèi)的清洗噴頭連通，本發(fā)明可以連續(xù)在線清洗，清洗完畢自動出料，提高清洗效率，水處理后循環(huán)使用，減少水資源浪費。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種節(jié)水型硅片切割生產(chǎn)清洗設(shè)備。

背景技術(shù)

硅片的表面清潔度能夠影響半導(dǎo)體元件的質(zhì)量，因此硅片的清洗工藝是半導(dǎo)體元件生產(chǎn)中的重要工序。將晶棒切割成硅片后，各硅片的表面粘著切割時使用的砂漿液體，由于砂漿液體中含有研磨劑和油，因此具有一定的粘黏性，會把相鄰的硅片黏在一起。現(xiàn)有技術(shù)中，將切割后的硅片放入清洗槽內(nèi)清洗，現(xiàn)有的硅片清洗裝置一般采用帶有超聲波發(fā)生設(shè)備的槽式清洗設(shè)備處理，但槽式清洗設(shè)備通常帶有大花籃，導(dǎo)致硅片清洗時自動化程度低，進而嚴(yán)重制約了產(chǎn)能，且清洗后的水沒有設(shè)有回收處理裝置造成了水資源浪費。

基于此，本發(fā)明設(shè)計了一種節(jié)水型硅片切割生產(chǎn)清洗設(shè)備，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種節(jié)水型硅片切割生產(chǎn)清洗設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的槽式清洗設(shè)備通常帶有大花籃，導(dǎo)致硅片清洗時自動化程度低，進而嚴(yán)重制約了產(chǎn)能，且清洗后的水沒有設(shè)有回收處理裝置造成了水資源浪費的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種節(jié)水型硅片切割生產(chǎn)清洗設(shè)備，包括清洗部和節(jié)水部，所述清洗部包括清洗箱，所述清洗箱內(nèi)轉(zhuǎn)動連接有一組內(nèi)輥，所述內(nèi)輥之間套有安裝帶，所述安裝帶側(cè)壁固定連接有硅片架，所述硅片架前端轉(zhuǎn)動連接有彈性擋輥，所述硅片架與清洗箱內(nèi)壁滑動連接，所述清洗箱兩側(cè)分別開設(shè)有進料窗和出料窗，所述節(jié)水部包括底部沉淀箱，所述底部沉淀箱頂部固定連接有清洗沉淀箱，所述清洗沉淀箱中間滑動連接有活動封底，所述清洗沉淀箱頂部固定連接有清水箱，所述清洗沉淀箱與清水箱之間連通有過濾管，所述清水箱與清洗箱內(nèi)的清洗噴頭連通。

優(yōu)選的，所述安裝帶設(shè)有兩組且內(nèi)壁均固定連接有傳動齒，所述內(nèi)輥外壁固定連接有內(nèi)齒圈，所述內(nèi)齒圈與傳動齒嚙合。

優(yōu)選的，所述硅片架中間開設(shè)有多個通窗，所述硅片架內(nèi)部彈性連接有內(nèi)推板，所述硅片架后端穿過安裝帶為開放狀態(tài)。

優(yōu)選的，所述硅片架側(cè)壁固定連接有側(cè)支架，所述側(cè)支架通過反力彈簧和轉(zhuǎn)動連接有彈性擋桿，所述彈性擋桿之間轉(zhuǎn)動連接有彈性擋輥。

優(yōu)選的，所述清洗箱內(nèi)壁固定連接有導(dǎo)向滑軌，所述硅片架側(cè)壁固定連接有導(dǎo)向滑輥，所述導(dǎo)向滑輥位于導(dǎo)向滑軌內(nèi)與之滑動配合，可維持硅片架4在豎直段的水平狀態(tài)方便硅片的置入和出料。

優(yōu)選的，所述清洗箱內(nèi)部固定連接有出料推桿，所述出料推桿活動端朝向出料窗且與之對應(yīng)，所述清洗箱外壁固定連接有延展料臺分別位于出料窗和進料窗下方。

優(yōu)選的，所述清洗沉淀箱包括初步箱和二次箱，所述初步箱和二次箱之間通過上彎管連通，所述活動封底包括底部實板和上層活動板。

優(yōu)選的，所述底部實板和上層活動板之間通過連板固定連接，所述上層活動板之間滑動連接有多組密封板，所述上層活動板上下表面開設(shè)有多條透水通窗，所述密封板頂部固定連接有閉合推板，所述清洗沉淀箱內(nèi)壁和閉合推板之間固定連接有換底推桿。

優(yōu)選的，所述清水箱底部固定連接有升降推桿，所述升降推桿底部固定連接有活動封底，所述清水箱側(cè)壁固定連接有補充箱。