[發(fā)明專利]一種同時(shí)測(cè)量多孔介質(zhì)滲透率和孔隙率的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011348601.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112557276B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-09-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王沫然;王玥;田志國(guó) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N15/08 | 分類號(hào): | G01N15/08 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人: | 劉凱強(qiáng);張奎燕 |
| 地址: | 10008*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 同時(shí) 測(cè)量 多孔 介質(zhì) 滲透 孔隙率 方法 | ||
1.一種同時(shí)測(cè)量多孔介質(zhì)滲透率和孔隙率的方法,所述方法包括以下步驟:
1)將多孔介質(zhì)樣品放置在樣品腔中,通過(guò)管路將樣品腔的兩端與上下游氣體腔分別相連,使得所述多孔介質(zhì)樣品的上表面與上游氣體腔連通,下表面和下游氣體腔連通,密封所述多孔介質(zhì)樣品的側(cè)面;
2)向所述上游氣體腔和所述下游氣體腔充入相同的工作氣體,打開(kāi)兩氣體腔與所述樣品腔之間的閥門,靜置直至兩氣體腔與所述樣品腔壓力相等,即初始平衡壓力;
3)關(guān)閉所述下游氣體腔與所述樣品腔之間的閥門,將所述下游氣體腔內(nèi)壓力降低,降低后維持壓力不變,即下游初始?jí)毫0;打開(kāi)所述下游氣體腔與所述樣品腔之間的閥門,上游氣體在壓差驅(qū)動(dòng)下穿過(guò)所述樣品腔流入所述下游氣體腔,記錄所述上游氣體腔內(nèi)壓力值隨時(shí)間的變化情況P(t);
或者,關(guān)閉所述上游氣體腔與所述樣品腔之間的閥門,將所述上游氣體腔內(nèi)的壓力升高,升高后維持壓力不變,即上游初始?jí)毫0;打開(kāi)所述上游氣體腔與所述樣品腔之間的閥門,上游氣體在壓差驅(qū)動(dòng)下穿過(guò)所述樣品腔流入所述下游氣體腔,記錄下游氣體腔壓力隨時(shí)間變化情況P(t);
5)利用所述上游氣體腔和所述下游氣體腔內(nèi)的壓差值隨時(shí)間的變化情況,即|P(t)-P0|,進(jìn)行滲透率和孔隙率的測(cè)量;
6)計(jì)算|P(t)-P0|的值,并通過(guò)擬合得到ln[|P(t)-P0|]對(duì)時(shí)間的斜率α和截距f;
滲透率根據(jù)下式(1)進(jìn)行計(jì)算:
孔隙率根據(jù)下式(2)或式(3)進(jìn)行計(jì)算,當(dāng)降低下游氣體腔壓力時(shí)選擇式(2),當(dāng)提高上游氣體腔壓力時(shí),選擇公式(3):
式中,k—多孔介質(zhì)的滲透率,D;A—樣品橫截面積,cm2;φ—樣品孔隙度;L—多孔介質(zhì)樣品的長(zhǎng)度,cm;Vu—上游氣體腔體積,Vd—下游氣體腔體積,cm3;P(t)—上游氣體腔或下游氣體腔在t時(shí)刻的壓力值,MPa;μ—?dú)怏w粘度,mPa·s;β—?dú)怏w壓縮性,Pa-1;
將所述f帶入式(4)a=3091.7f4-684.46f3+76.014f2+4.5344f............(4)計(jì)算得到參數(shù)a;
將所述f帶入式(5)b=(4.123f2+0.4846f+3.484×10-4)/(f+0.01263)……(5)計(jì)算得到參數(shù)b。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)測(cè)量多孔介質(zhì)滲透率和孔隙率的方法,其中,所述工作氣體選氮?dú)狻⒍趸肌⒑夂蜌鍤庵械娜我庖环N或更多種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同時(shí)測(cè)量多孔介質(zhì)滲透率和孔隙率的方法,其中,所述多孔介質(zhì)選自巖芯、多孔陶瓷、泡沫金屬和高分子材料中的任意一種或更多種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的同時(shí)測(cè)量多孔介質(zhì)滲透率和孔隙率的方法,其中,步驟(1)中所述樣品腔、所述上游氣體腔和所述下游氣體腔的溫度相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的同時(shí)測(cè)量多孔介質(zhì)滲透率和孔隙率的方法,其中,步驟(3)中所述升高或降低后維持壓力不變?yōu)槭褂米⑸浔米詣?dòng)調(diào)節(jié)所述上游氣體腔或所述下游氣體腔內(nèi)壓力。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于清華大學(xué),未經(jīng)清華大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011348601.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備





