[發明專利]一種井下氣液旋流分離裝置在審
| 申請號: | 202011348510.X | 申請日: | 2020-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN112360425A | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發明(設計)人: | 李楓 | 申請(專利權)人: | 大慶東大盛源科技開發有限公司 |
| 主分類號: | E21B43/38 | 分類號: | E21B43/38 |
| 代理公司: | 大慶知文知識產權代理有限公司 23115 | 代理人: | 李建華 |
| 地址: | 163316 黑龍江省大慶*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 井下 氣液旋流 分離 裝置 | ||
1.一種井下氣液旋流分離裝置,具有來氣管道(5)、來氣入口(1)以及氣相出口(4)和一級液相出口(2);其特征在于:所述分離裝置還包括多級液相出口(3)、墊圈(6)、上部旋流腔(8)、氣液分離腔(9)、切向入口盤(7)以及內部旋流器(10);
所述來氣管道(5)包含切向入口外殼(501)和圓柱外殼(502);所述入口外殼和圓柱外殼之間留有縫隙,縫隙范圍在1mm~3mm之間,所述縫隙通過置入墊圈(6)來實現密封;
所述切向入口盤(7)在上表面均勻分布4個螺紋孔,在側面對稱分布兩個矩形的切向入口,所述切向入口的入口高度為整個切向入口盤的2/3;切向入口盤(7)位于切向入口外殼(501)內部;
所述上部旋流腔(8)包括平面法蘭盤和漏斗狀分離段;所述上部旋流腔為薄壁結構,位于所述切向入口盤的上方,通過螺栓與所述切向入口盤上的4個螺紋孔連接;
所述氣液分離腔(9)包括平面法蘭盤和氣液分離段,所述氣液分離腔為薄壁結構,和上部旋流腔(8)相連,位于上部旋流腔(8)的下方;所述氣液分離腔嵌套在所述內部旋流器中心;
內部旋流器(10)包括平面法蘭盤和旋流體,所述旋流體為薄壁結構;內部旋流器(10)位于切向入口外殼(502)的下方;
本裝置內的組成部件按照如下方式固定,即按照軸向定位首先將內部旋流器(10)和來氣管道(5)固定好,再放入切向入口盤(7),然后放入氣液分離腔(9),最后放入上部旋流腔(8);通過4個螺栓將內部旋流器(10)、來氣管道、切向入口盤(7)、氣液分離腔(9)以及上部旋流腔(8)相連接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于大慶東大盛源科技開發有限公司,未經大慶東大盛源科技開發有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011348510.X/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:翻轉機構及電子設備
- 下一篇:聚酰胺酸漿料及其制備方法和應用





