[發(fā)明專利]抗蝕劑組合物以及抗蝕劑圖案形成方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011348383.3
• 申請(qǐng)日: 2020-11-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112882341A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 平山文武;平野智之;吉田裕三;河野紳一;中川裕介
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京應(yīng)化工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): G03F7/004
• 分類號(hào): G03F7/004;G03F7/20;G03F7/30
• 代理公司: 上海立群專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31291
• 代理人: 陳亦歐;毛立群

1.一種抗蝕劑組合物，是通過(guò)曝光產(chǎn)生酸并且對(duì)顯影液的溶解性因酸的作用而變化的抗蝕劑組合物，其特征在于，含有：

對(duì)顯影液的溶解性因酸的作用而變化的基材成分(A)；

離子液體(Z)，

所述抗蝕劑組合物的固體成分濃度為25質(zhì)量％以上。

2.如權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物，其特征在于，所述離子液體(Z)的含量相對(duì)于所述基材成分(A)100質(zhì)量份為大于0質(zhì)量份且小于25質(zhì)量份。

3.一種抗蝕劑圖案形成方法，其特征在于，具有：在支承體上使用權(quán)利要求1或2所述的抗蝕劑組合物形成抗蝕劑膜的工序；將所述抗蝕劑膜曝光的工序；以及將所述曝光后的抗蝕劑膜顯影而形成抗蝕劑圖案的工序。