[發明專利]一種用于廢氣凈化導管中的結塊清除裝置及其使用方法

有效

• 申請號: 202011347390.1
• 申請日: 2020-11-26
• 公開（公告）號: CN112588740B
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 王成林;楊少康
• 申請（專利權）人: 瑞燃（上海）環境工程技術有限公司
• 主分類號: B08B9/049
• 分類號: B08B9/049;B08B13/00;B01D53/04
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265
• 代理人: 余瑩

本發明公開了一種用于廢氣凈化導管中的結塊清除裝置，包括氧化室、進氣組件和引風機，所述氧氣室內安裝有過濾器，所述過濾器內部安裝有氣管，所述氣管穿過所述氧氣室向上通向氧氣室外部，所述氣管上端安裝有所述引風機，所述氣管一側的所述氧氣室上安裝有清除裝置，所述清除裝置包括控制器、切換閥、氣缸和導桿，所述控制器與所述切換閥連接，所述切換閥與所述氣缸連接，所述氣缸上設置有導桿，所述導桿上連接有擋板，所述導桿安裝于進氣裝置內，所述進氣裝置包括立管和進氣管，立管一側設置有進氣孔，所述進氣孔與所述進氣管成夾角固定連接，本發明通過清除裝置刮除附著在管壁上的由工藝尾氣氧化后生成的顆粒物，防止工藝尾氣管路入口處的堵塞。

技術領域

本發明涉及電子半導體加工技術領域，屬于芯片制造相關裝備，特別是涉及一種用于芯片制造工藝廢氣凈化導管中的結塊清除裝置及其使用方法。

背景技術

在芯片制造、封裝測試等電子半導體行業的制造工藝過程中，例如氣相化學沉積(CVD)、磊晶(Epitaxy)、半導體化合物(Compound Semiconductor)等工藝。會有大量的容易自燃的工藝氣體產生。該類工藝氣體中，典型的如硅烷，硼烷，三甲基鋁等，其與空氣中的氧氣極其容易氧化。被空氣中的氧氣氧化后，直接生成二氧化硅，氧化硼，三氧化二鋁等顆粒粉末。顆粒物粉末在工藝尾氣進口處即與空氣/氧氣混合處容易掛壁在管壁上，并集聚。并且容易形成對工藝尾氣管路入口處的堵塞。對工藝尾氣處理系統的安全平穩運行造成負面影響。有粉末集聚和堵塞的情況發生時，導致進入氧化的工藝尾氣流量逐漸較少，并最終形成對前端正常的生產活動產生負面影響。甚至會對安全生產產生威脅。

由此，對一般的自燃工藝尾氣處理裝置的運行，均需要人工定期維護和清理進口管路系統，以此避免管道的堵塞對正常的工藝生產和尾氣處理造成負面影響。

發明內容

本發明的目的在于提供一種用于廢氣凈化導管中的結塊清除裝置，以解決上述背景技術中提出的問題，該氣缸的軸上設計一個擋板。該擋板被氣缸軸往復切換運動時，在工藝尾氣的進口管段來回運行并刮除附著在管壁上的由工藝尾氣氧化后生成的顆粒物，以此達到自動清理的目的。同時，擋板的設計采用特別的結構設計，保證在自動清理過程，降低對工藝尾氣的壓力和流量的影響的同時加快了工藝尾氣的流速，提高過濾效率，優化工藝尾氣進口和混合口的結構設計，保證氣缸的可靠平穩運行。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種用于廢氣凈化導管中的結塊清除裝置，包括氧化室、進氣組件和引風機，其特征在于，所述氧氣室內安裝有過濾器，所述過濾器內部安裝有氣管，所述氣管穿過所述氧氣室向上通向氧氣室外部，所述氣管上端安裝有所述引風機，所述氣管一側的所述氧氣室上安裝有清除裝置，所述清除裝置包括控制器、切換閥、氣缸和導桿，所述控制器與所述切換閥連接，所述切換閥與所述氣缸連接，所述氣缸上設置有導桿，所述導桿上連接有擋板，所述導桿安裝于進氣裝置內，所述進氣裝置包括立管和進氣管，所述立管一側設置有進氣孔，所述進氣孔與所述進氣管成夾角固定連接；通過設置氧化室的過濾器能夠完成對工藝廢氣的凈化吸附，在吸附過程中通過清除裝置對工藝尾氣的反應形成的顆粒聚集物進行清理。

優選的，所述擋板包括上擋圈和下擋板，所述上擋圈安裝于所述下擋板的邊沿處，所述下擋板中心位置安裝有旋轉管，所述旋轉管內安裝有轉軸，所述轉軸與旋轉清理裝置轉動連接，所述旋轉清理裝置安裝于所述導桿上；通過上擋圈和下擋板的設置能夠在他們之間形成夾層，夾層用于放置旋轉清理裝置，保證旋轉清理裝置能夠定位旋轉防止在旋轉過程中顆粒物的飛落，同時上擋圈通過導桿固定。

優選的，所述下擋板包括外圈、內圈、筋、固定孔和透氣孔，所述外圈與所述內圈通過所述筋連接，所述內圈上設置有固定孔，所述外圈與所述內圈、筋之間形成透氣孔；設置外圈和內圈主要是保證在擋板下落過程中能夠保證工藝尾氣的順利通過，在不影響工藝尾氣處理的過程中刮除立管內壁上的聚集顆粒，便于進行自動清理。