[發(fā)明專利]工件缺陷檢測方法及裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011346308.3
• 申請日: 2020-11-26
• 公開（公告）號: CN112461846A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王罡;朱志庭;章國川;潘正頤;侯大為
• 申請（專利權(quán)）人: 常州微億智造科技有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88
• 代理公司: 常州至善至誠專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32409
• 代理人: 趙旭

1.一種工件缺陷檢測方法，其特征在于，所述方法包括：

利用視覺檢測機臺獲取從產(chǎn)線上收集的工件的光學(xué)面圖像；

核對所述光學(xué)面圖像上缺陷所在的位置及缺陷區(qū)域；

將所述光學(xué)面圖像輸入至缺陷預(yù)測模型以獲取預(yù)測數(shù)據(jù)，所述預(yù)測數(shù)據(jù)包括所述光學(xué)面中各個缺陷的位置及缺陷區(qū)域；

將所述核對的缺陷區(qū)域以及所述預(yù)測數(shù)據(jù)中的缺陷區(qū)域進行對比，將相交區(qū)域高于預(yù)定閾值的缺陷記為檢出，將其他缺陷記為過檢；

將檢出和過檢分別標(biāo)記于所述光學(xué)圖像中對應(yīng)缺陷的位置處，以供人工復(fù)核。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述利用視覺檢測機臺獲取產(chǎn)線上工件的光學(xué)面圖像之前，所述方法還包括：

根據(jù)待檢測的缺陷類型，從產(chǎn)線上收集具備所述缺陷類型的工件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述核對所述光學(xué)面圖像上缺陷所在的位置及缺陷區(qū)域，包括：

顯示所述光學(xué)面圖像；

獲取在所述光學(xué)面圖像中選中的包含有缺陷的區(qū)域；

在位置輸入框中顯示所述區(qū)域的中心位置，在區(qū)域輸入框中顯示所述區(qū)域的區(qū)域范圍，所述位置輸入框和所述區(qū)域輸入框中的數(shù)據(jù)允許復(fù)核人員更改；

在接收到確定指令時，獲取所述位置輸入框中的位置數(shù)據(jù)，以及所述區(qū)域輸入框中的區(qū)域數(shù)據(jù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述將檢出標(biāo)記和過檢標(biāo)記分別標(biāo)記于所述光學(xué)圖像中對應(yīng)缺陷的位置處，以供人工復(fù)核之后，所述方法還包括：

根據(jù)所述光學(xué)圖像中的標(biāo)記以及實際缺陷情況，更改檢測規(guī)則；

利用所述更改后的檢測規(guī)則更新所述缺陷預(yù)測模型。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述缺陷預(yù)測模型被配置為識別光學(xué)面中的所有缺陷，輸出以不漏檢為目標(biāo)的預(yù)測數(shù)據(jù)。

6.一種工件缺陷檢測裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第一獲取模塊，用于利用視覺檢測機臺獲取從產(chǎn)線上收集的工件的光學(xué)面圖像；

核對模塊，用于核對所述光學(xué)面圖像上缺陷所在的位置及缺陷區(qū)域；

第二獲取模塊，用于將所述第一獲取模塊獲取到的光學(xué)面圖像輸入至缺陷預(yù)測模型以獲取預(yù)測數(shù)據(jù)，所述預(yù)測數(shù)據(jù)包括所述光學(xué)面中各個缺陷的位置及缺陷區(qū)域；

對比模塊，用于將所述核對的缺陷區(qū)域以及所述預(yù)測數(shù)據(jù)中的缺陷區(qū)域進行對比，將相交區(qū)域高于預(yù)定閾值的缺陷記為檢出，將其他缺陷記為過檢；

標(biāo)記模塊，用于將所述對比模塊得出的檢出和過檢分別標(biāo)記于所述光學(xué)圖像中對應(yīng)缺陷的位置處，以供人工復(fù)核。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

收集模塊，用于根據(jù)待檢測的缺陷類型，從產(chǎn)線上收集具備所述缺陷類型的工件。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述核對模塊還用于：

顯示所述光學(xué)面圖像；

獲取在所述光學(xué)面圖像中選中的包含有缺陷的區(qū)域；

在位置輸入框中顯示所述區(qū)域的中心位置,在區(qū)域輸入框中顯示所述區(qū)域的區(qū)域范圍，所述位置輸入框和所述區(qū)域輸入框中的數(shù)據(jù)允許復(fù)核人員更改；

在接收到確定指令時，獲取所述位置輸入框中的位置數(shù)據(jù)，以及所述區(qū)域輸入框中的區(qū)域數(shù)據(jù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

更改模塊，用于根據(jù)所述光學(xué)圖像中的標(biāo)記以及實際缺陷情況，更改檢測規(guī)則；

更新模塊，用于利用所述更改后的檢測規(guī)則更新所述缺陷預(yù)測模型。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述缺陷預(yù)測模型被配置為識別光學(xué)面中的所有缺陷，輸出以不漏檢為目標(biāo)的預(yù)測數(shù)據(jù)。