[發明專利]應用于雙面拋光設備的物料管理方法、系統及存儲介質

有效

• 申請號: 202011344635.5
• 申請日: 2020-11-26
• 公開（公告）號: CN112388496B
• 公開（公告）日: 2022-03-22
• 發明（設計）人: 李昀澤
• 申請（專利權）人: 西安奕斯偉硅片技術有限公司;西安奕斯偉材料技術有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B27/00;B24B51/00;B24B41/06;G06K17/00
• 代理公司: 西安維英格知識產權代理事務所(普通合伙) 61253
• 代理人: 李斌棟;姚勇政

本發明實施例公開了一種應用于雙面拋光設備的物料管理方法、系統及存儲介質；該系統包括：在雙面拋光設備的定盤外圍固定設置的紅外標簽閱讀器、控制器以及設置在承載盤的能被紅外探測到的標簽；其中，所述紅外標簽閱讀器，經配置為當所述雙面拋光設備停機下料時，在探測范圍內檢測是否存在目標標簽，并將檢測結果傳輸至所述控制器；所述控制器，經配置為相應于所述檢測結果表征未檢測到目標標簽，向所述雙面拋光設備發送復位指令；其中，所述復位指令用于指示所述雙面拋光設備針對所述承載盤的位置進行初始化以使得所述承載盤恢復到正確位置。

技術領域

本發明實施例涉及晶圓制造技術領域，尤其涉及一種應用于雙面拋光設備的物料管理方法、系統及存儲介質。

背景技術

目前硅晶圓制造工藝流程中，執行雙面拋光工序所采用雙面拋光設備，通常包括上、下定盤和用于承載硅晶圓的承載盤（Carrier）。對于承載盤來說，其設計結構以不銹鋼作為基礎，表面涂布類金剛石薄膜（DLC，Diamond-Like Carbon）涂層，同硅晶圓相接觸部分的內圓環部分鑲嵌聚偏氟乙烯PVDF高分子材料。在雙面拋光設備中，承載盤通常放置于下定盤上，并且承載盤能夠繞自身軸線自轉并繞所述下定盤的中心公轉以實現相對于上、下定盤運動；上、下定盤均安裝有拋光墊。上、下定盤同時施加壓力并結合相對運動對承載盤上所承載的硅晶圓進行拋光。

在拋光過程中，基于上、下定盤同時施加的壓力以及拋光墊相對運動的作用，通常會導致承載盤內所鑲嵌的PVDF高分子材料會發生磨損，為確保硅晶圓產品質量，需要對承載盤的壽命進行管理以進行定期更換；此外，由于部分承載盤偶爾會出現品質問題，也需單獨更換。因此會在進行承載盤更換后會出現同一臺設備內的承載盤壽命不一致的問題，加大物料管理的難度。另外，雙面拋光設備加工完成后會進行停機下料，此時，偶爾會因為停機時承載盤位置偏差導致硅晶圓位置錯誤的現象。

發明內容

有鑒于此，本發明實施例期望提供一種應用于雙面拋光設備的物料管理方法、系統及存儲介質；能夠對承載盤的壽命進行管理，并且監控承載盤位置，避免停機時由于承載盤位置出現偏差而導致硅晶圓位置錯誤的現象。

本發明實施例的技術方案是這樣實現的：

第一方面，本發明實施例提供了一種應用于雙面拋光設備的物料管理系統，所述系統包括：在雙面拋光設備的定盤外圍固定設置的紅外標簽閱讀器、控制器以及設置在承載盤的能被紅外探測到的標簽；其中，

所述紅外標簽閱讀器，經配置為當所述雙面拋光設備停機下料時，在探測范圍內檢測是否存在目標標簽，并將檢測結果傳輸至所述控制器；

所述控制器，經配置為相應于所述檢測結果表征未檢測到目標標簽，向所述雙面拋光設備發送復位指令；其中，所述復位指令用于指示所述雙面拋光設備針對所述承載盤的位置進行初始化以使得所述承載盤恢復到正確位置。

第二方面，本發明實施例提供了一種應用于雙面拋光設備的物料管理方法，所述方法應用于第一方面所述的應用于雙面拋光設備的物料管理系統，所述方法包括：

當所述雙面拋光設備停機下料時，通過紅外標簽閱讀器在探測范圍內檢測是否存在目標標簽；

相應于所述檢測結果表征未檢測到目標標簽，通過控制器向所述雙面拋光設備發送復位指令；其中，所述復位指令用于指示所述雙面拋光設備針對所述承載盤的位置進行初始化以使得所述承載盤恢復到正確位置。

第三方面，本發明實施例提供了一種計算機存儲介質，所述計算機存儲介質存儲有應用于雙面拋光設備的物料管理程序，所述應用于雙面拋光設備的物料管理程序被至少一個處理器執行時實現第二方面所述應用于雙面拋光設備的物料管理方法步驟。