[發(fā)明專利]凈化裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011344628.5 | 申請日: | 2020-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN112473350A | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 代超;秦小兵;葉翔;鄧良德;齊洪廣;戴榮富 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市捷晶能源科技有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/78 | 分類號: | B01D53/78 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 謝岳鵬 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道高新區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 凈化 裝置 | ||
1.凈化裝置,其特征在于,包括:
塔身,所述塔身內(nèi)設(shè)置有凈化腔和沉淀槽,所述塔身的頂部設(shè)置有出氣口,所述塔身還設(shè)置有進氣口、溢流口和至少一個噴淋口,所述沉淀槽位于所述凈化腔的下方,所述凈化腔分別與所述沉淀槽、所述出氣口和所述進氣口相連通,所述溢流口與所述沉淀槽相連通,所述噴淋口設(shè)置在所述進氣口的上側(cè),用于朝所述凈化腔噴灑凈化液;
靜置部,所述靜置部設(shè)置在所述沉淀槽中,所述靜置部上設(shè)置有第一流通孔和第二流通孔,所述第二流通孔用于使所述凈化液從下方通過所述靜置部;
引流部,所述引流部安裝在所述沉淀槽中,所述引流部包括匯流件,所述匯流件呈斜面狀,用于引導(dǎo)所述凈化液通過所述第一流通孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈化裝置,其特征在于,還包括循環(huán)泵,所述噴淋口與所述溢流口相連通,所述循環(huán)泵設(shè)置在所述噴淋口與所述溢流口之間,所述循環(huán)泵的進水口與所述溢流口連通,所述循環(huán)泵的出水口與所述噴淋口連通。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈化裝置,其特征在于,還包括第一液位監(jiān)測件,所述第一液位監(jiān)測件安裝在所述沉淀槽內(nèi),所述第一液位監(jiān)測件設(shè)置在所述溢流口的上側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈化裝置,其特征在于,所述塔身的下側(cè)設(shè)置有排污口,所述排污口與所述沉淀槽相連通,所述排污口設(shè)置在所述溢流口的下側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的凈化裝置,其特征在于,還包括蓄液部,所述蓄液部包括箱體,所述箱體內(nèi)設(shè)置有蓄液腔,所述蓄液腔分別與所述溢流口和所述噴淋口相連通,所述循環(huán)泵設(shè)置在所述蓄液腔與所述噴淋口之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的凈化裝置,其特征在于,所述蓄液部還包括第二液位監(jiān)測件,所述第二液位監(jiān)測件安裝在所述箱體上,用于監(jiān)測所述蓄液腔內(nèi)所述凈化液的液位。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的凈化裝置,其特征在于,所述蓄液部還包括pH計,所述pH計安裝在所述箱體上,用于監(jiān)測所述凈化液的酸堿性。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈化裝置,其特征在于,還包括填充層,所述填充層安裝在所述噴淋口與所述進氣口之間,用于延長所述凈化液的在所述凈化腔內(nèi)的流動時間。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的凈化裝置,其特征在于,所述填充層設(shè)置有多個,任一所述填充層的上側(cè)至少有一個所述噴淋口。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的凈化裝置,其特征在于,所述填充層為規(guī)整填料。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的凈化裝置,其特征在于,位于上方的所述規(guī)整填料的孔隙小于位于下方的所述規(guī)整填料的孔隙。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈化裝置,其特征在于,還包括干燥層,所述干燥層設(shè)置在所述噴淋口與所述出氣口之間,用于吸附所述凈化液。
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