[發明專利]凈化裝置

在審

• 申請號: 202011344628.5
• 申請日: 2020-11-26
• 公開（公告）號: CN112473350A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 代超;秦小兵;葉翔;鄧良德;齊洪廣;戴榮富
• 申請（專利權）人: 深圳市捷晶能源科技有限公司
• 主分類號: B01D53/78
• 分類號: B01D53/78
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 謝岳鵬

1.凈化裝置，其特征在于，包括：

塔身，所述塔身內設置有凈化腔和沉淀槽，所述塔身的頂部設置有出氣口，所述塔身還設置有進氣口、溢流口和至少一個噴淋口，所述沉淀槽位于所述凈化腔的下方，所述凈化腔分別與所述沉淀槽、所述出氣口和所述進氣口相連通，所述溢流口與所述沉淀槽相連通，所述噴淋口設置在所述進氣口的上側，用于朝所述凈化腔噴灑凈化液；

靜置部，所述靜置部設置在所述沉淀槽中，所述靜置部上設置有第一流通孔和第二流通孔，所述第二流通孔用于使所述凈化液從下方通過所述靜置部；

引流部，所述引流部安裝在所述沉淀槽中，所述引流部包括匯流件，所述匯流件呈斜面狀，用于引導所述凈化液通過所述第一流通孔。

2.根據權利要求1所述的凈化裝置，其特征在于，還包括循環泵，所述噴淋口與所述溢流口相連通，所述循環泵設置在所述噴淋口與所述溢流口之間，所述循環泵的進水口與所述溢流口連通，所述循環泵的出水口與所述噴淋口連通。

3.根據權利要求1所述的凈化裝置，其特征在于，還包括第一液位監測件，所述第一液位監測件安裝在所述沉淀槽內，所述第一液位監測件設置在所述溢流口的上側。

4.根據權利要求1所述的凈化裝置，其特征在于，所述塔身的下側設置有排污口，所述排污口與所述沉淀槽相連通，所述排污口設置在所述溢流口的下側。

5.根據權利要求2所述的凈化裝置，其特征在于，還包括蓄液部，所述蓄液部包括箱體，所述箱體內設置有蓄液腔，所述蓄液腔分別與所述溢流口和所述噴淋口相連通，所述循環泵設置在所述蓄液腔與所述噴淋口之間。

6.根據權利要求5所述的凈化裝置，其特征在于，所述蓄液部還包括第二液位監測件，所述第二液位監測件安裝在所述箱體上，用于監測所述蓄液腔內所述凈化液的液位。

7.根據權利要求5所述的凈化裝置，其特征在于，所述蓄液部還包括pH計，所述pH計安裝在所述箱體上，用于監測所述凈化液的酸堿性。

8.根據權利要求1所述的凈化裝置，其特征在于，還包括填充層，所述填充層安裝在所述噴淋口與所述進氣口之間，用于延長所述凈化液的在所述凈化腔內的流動時間。

9.根據權利要求8所述的凈化裝置，其特征在于，所述填充層設置有多個，任一所述填充層的上側至少有一個所述噴淋口。

10.根據權利要求9所述的凈化裝置，其特征在于，所述填充層為規整填料。

11.根據權利要求10所述的凈化裝置，其特征在于，位于上方的所述規整填料的孔隙小于位于下方的所述規整填料的孔隙。

12.根據權利要求1所述的凈化裝置，其特征在于，還包括干燥層，所述干燥層設置在所述噴淋口與所述出氣口之間，用于吸附所述凈化液。