[發(fā)明專利]液晶裝置和電子設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011343500.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112859422B | 公開(公告)日: | 2023-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 杉浦幸大 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/1337;G02F1/1343;G02F1/1362 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李慶澤;鄧毅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 裝置 電子設(shè)備 | ||
液晶裝置和電子設(shè)備。適當(dāng)抑制因液晶分子的取向紊亂引起的圖像品質(zhì)下降,液晶分子的取向紊亂是因橫向電場(chǎng)引起。在液晶裝置(100)中沿像素電極(9a)的邊緣設(shè)有第1遮光部件(2a)、第2遮光部件(2b)、第3遮光部件(2c)和第4遮光部件(2d),液晶分子(85)的預(yù)傾角方向(P)(取向方向)設(shè)為與第1方向(X)及第2方向(Y)交叉并朝第3遮光部件(2c)和第4遮光部件(2d)的第2交叉區(qū)域(2f)的方向。在像素電極(9a)的下層側(cè)設(shè)有沿像素電極(9a)的端部延伸的凸部(40a)。像素電極(9a)在沿第1遮光部件(2a)和第2遮光部件(2b)的區(qū)域不與凸部(40a)重疊,在沿第3遮光部件(2c)和第4遮光部件(2d)的區(qū)域與凸部(40a)重疊。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶裝置和電子設(shè)備。
背景技術(shù)
液晶裝置具有:第1基板,其在一面?zhèn)仍O(shè)置有透光性的多個(gè)像素電極和覆蓋多個(gè)像素電極的第1取向膜;第2基板,其在與第1基板對(duì)置的面?zhèn)仍O(shè)置有第2取向膜;以及液晶層,其設(shè)置在第1基板與第2基板之間。多個(gè)像素電極的端部分別與在第1方向上延伸的第1遮光部以及在第2方向上延伸的第2遮光部重疊。在該液晶裝置中,提出了如下構(gòu)造:使被第1遮光部和第2遮光部包圍的開口部的第2方向上的尺寸比第1方向上的尺寸小,使第1遮光部的第2方向上的寬度比第2遮光部的第1方向上的寬度大(參照專利文獻(xiàn)1)。此外,提出了如下內(nèi)容:使像素電極的中心相對(duì)于開口部的中心在沿著第2方向的方向上向液晶分子的預(yù)傾角的方位偏移。根據(jù)該結(jié)構(gòu),即使在液晶分子的取向因在第2方向上相鄰的像素電極之間所產(chǎn)生的橫向電場(chǎng)的影響而紊亂的情況下,也能夠使產(chǎn)生了該紊亂的區(qū)域從第2遮光部伸出的范圍變窄,因此能夠抑制因橫向電場(chǎng)引起的顯示品質(zhì)下降。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2019-148625號(hào)公報(bào)
但是,在專利文獻(xiàn)1所記載的技術(shù)中,由于是使產(chǎn)生因橫向電場(chǎng)引起的取向的紊亂的部分的遮光部的寬度增大而隱藏橫向電場(chǎng)的影響的結(jié)構(gòu),因此,為了可靠地隱藏因橫向電場(chǎng)引起的取向的紊亂而增大遮光部的寬度。其結(jié)果,發(fā)生顯示光量的下降。因此,在專利文獻(xiàn)1所記載的結(jié)構(gòu)中,存在無法適當(dāng)?shù)匾种朴捎谝驒M向電場(chǎng)引起的液晶分子的取向的紊亂引起的圖像品質(zhì)下降的課題。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述課題,本發(fā)明的液晶裝置的一個(gè)方式的特征在于,具有:液晶層,其具有液晶分子;第1遮光部件,其沿著第1方向延伸;第2遮光部件,其沿著與所述第1方向交叉的第2方向延伸;第3遮光部件,其與所述第2遮光部件交叉,沿著所述第1方向延伸;第4遮光部件,其與所述第1遮光部件以及所述第3遮光部件交叉,沿著所述第2方向延伸;晶體管,其與所述第3遮光部件和所述第4遮光部件的交叉區(qū)域?qū)?yīng)地設(shè)置;像素電極,其與所述晶體管對(duì)應(yīng)地設(shè)置,設(shè)置成所述像素電極的端部分別沿著所述第1遮光部件、所述第2遮光部件、所述第3遮光部件和所述第4遮光部件;以及絕緣部件,其在所述第1遮光部件、所述第2遮光部件、所述第3遮光部件以及所述第4遮光部件與所述像素電極之間的層上具有沿著所述像素電極的端部設(shè)置的凸部,在俯視時(shí)設(shè)置有所述像素電極的區(qū)域中,所述液晶分子的取向方向被設(shè)定成與所述第1方向以及所述第2方向交叉并朝向所述交叉區(qū)域的方向,所述像素電極設(shè)置成在沿著所述第1遮光部件和所述第2遮光部件的區(qū)域中不與所述凸部重疊,在沿著所述第3遮光部件和所述第4遮光部件的區(qū)域中與所述凸部重疊。
本發(fā)明的液晶裝置能夠用于各種電子設(shè)備。
附圖說明
圖1是示出本發(fā)明實(shí)施方式1的液晶裝置的一個(gè)方式的俯視圖。
圖2是圖1所示的液晶裝置的H-H′剖視圖。
圖3是示出圖1所示的液晶裝置的電氣結(jié)構(gòu)的說明圖。
圖4是圖1所示的液晶裝置中使用的液晶分子等的說明圖。
圖5是圖1所示的液晶裝置的像素的俯視圖。
圖6是圖5所示的像素的E-E′剖視圖。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于精工愛普生株式會(huì)社,未經(jīng)精工愛普生株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011343500.7/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:投影儀的控制方法以及投影儀
- 下一篇:車輛用異常分析裝置
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





