[發(fā)明專利]光源裝置和投影儀有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011343496.4 | 申請日： | 2020-11-26 |
| 公開（公告）號： | CN112859499B | 公開（公告）日： | 2022-06-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 安松航;赤川朋子;白鳥幸也 | 申請（專利權(quán)）人： | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號： | G03B21/20 | 分類號： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 鄧毅;黃綸偉 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光源 裝置 投影儀 | ||
1.一種光源裝置，其具有：
光源部，其射出第1波段的第1光；
第1光學(xué)元件，其對從所述光源部射出的所述第1光進行會聚；
第2光學(xué)元件，其具有第1入射面和與所述第1入射面不同的第1射出面，由所述第1光學(xué)元件會聚的所述第1光入射到該第1入射面，該第2光學(xué)元件對從所述第1入射面入射的所述第1光進行引導(dǎo)并使其從所述第1射出面射出；以及
波長轉(zhuǎn)換元件，其具有第2入射面和與所述第2入射面不同的第2射出面，從所述第2光學(xué)元件的所述第1射出面射出的所述第1光入射到該第2入射面，該波長轉(zhuǎn)換元件將從所述第2入射面入射的所述第1光轉(zhuǎn)換為具有與所述第1波段不同的第2波段的第2光，
所述第2光學(xué)元件和所述波長轉(zhuǎn)換元件被設(shè)置成使所述第1射出面和所述第2入射面相對并且相互分離的狀態(tài)，
所述第2入射面的大小比所述第1射出面的大小大，
該光源裝置還具有第1基板，該第1基板保持所述波長轉(zhuǎn)換元件，并且與所述波長轉(zhuǎn)換元件熱連接，該第1基板具有供所述第2光學(xué)元件的一部分插入的貫通孔，
所述貫通孔的孔徑大小保持不變，
所述第2入射面位于所述波長轉(zhuǎn)換元件中的露出于所述貫通孔內(nèi)的部分，
所述第2光學(xué)元件具有與所述第1入射面和所述第1射出面交叉的側(cè)面，
所述第1基板具有與所述側(cè)面相對的第1面，
所述側(cè)面與所述第1基板的所述第1面相互分離地設(shè)置，
所述側(cè)面與所述第1面之間的間隙的大小比所述第1射出面與所述第2入射面之間的間隙的大小大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，其中，
所述波長轉(zhuǎn)換元件具有第1膜，該第1膜設(shè)置于所述第2入射面，使所述第1光透過并使所述第2光反射。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，其中，
所述波長轉(zhuǎn)換元件包含：
波長轉(zhuǎn)換層，其將從所述第2入射面入射的所述第1光波長轉(zhuǎn)換為所述第2光；以及
第2基板，其保持所述波長轉(zhuǎn)換層并且與所述波長轉(zhuǎn)換層熱連接，具有透光性。
4.一種投影儀，其特征在于，具有：
權(quán)利要求1～3中的任意一項所述的光源裝置；
光調(diào)制裝置，其通過根據(jù)圖像信息對來自所述光源裝置的光進行調(diào)制而形成圖像光；以及
投影光學(xué)系統(tǒng)，其投射所述圖像光。
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