[發(fā)明專利]一種低濃度次氯酸鈉和次氯酸消毒水的制備工藝及設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011339891.5 | 申請日: | 2020-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN112626545A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王鋒;張瑋;劉勇 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州合利源環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號: | C25B1/26 | 分類號: | C25B1/26;C25B1/14;C25B15/08 |
| 代理公司: | 上海宏京知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 閆亞 |
| 地址: | 215156 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 濃度 次氯酸 消毒 制備 工藝 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種低濃度次氯酸鈉和次氯酸消毒水的制備工藝,包括以下步驟:S1、將稀鹽酸箱內(nèi)的稀鹽酸溶液通過管路輸送至次氯酸電解槽中電解生成次氯酸,并將其輸送至第一射流器內(nèi);S2、將外部水源輸送至軟水器處理得到軟化水,軟水器通過第一出水管將軟化水輸送至溶鹽箱內(nèi),溶鹽箱通過管路與次氯酸鈉電解槽相連通,軟水器通過第二出水管將軟化水與管路中的飽和食鹽水混合形成稀鹽水溶液,稀鹽水溶液進入至次氯酸鈉電解槽內(nèi)電解生成次氯酸鈉,并將其輸送至第二射流器內(nèi);S3、軟水器通過管路分別將軟化水輸送至第一射流器和第二射流器內(nèi),軟化水作為稀釋水分別對次氯酸溶液及次氯酸鈉溶液進行稀釋,然后再將其通過管路輸出進行使用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及民用或終端水處理消毒設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種低濃度次氯酸鈉和次氯酸消毒水的制備工藝及設(shè)備。
背景技術(shù)
現(xiàn)有次氯酸鈉發(fā)生器大多為工業(yè)型裝置,其制備出的次氯酸鈉消毒水主要應(yīng)用在工業(yè)水處理消毒、市政行業(yè),產(chǎn)品溶液濃度高;低濃度次氯酸產(chǎn)品為成熟產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于國外的肉類加工、養(yǎng)殖、餐飲等區(qū)域的消毒。
針對民用或終端直接使用的消毒水(類似于水龍頭,打開即有消毒液直接洗手用或清洗食品用)的領(lǐng)域幾乎沒有,大多數(shù)為購買現(xiàn)成消毒液存放使用。如現(xiàn)有的民用單位如酒店、餐廳等,其洗手消毒液多為買成品消毒液,在使用時需要進行稀釋或者不稀釋直接使用,存在消毒液存儲的安全隱患問題,同時產(chǎn)品具有一定的保存有效期,在使用時需要工作人員經(jīng)常性進行添加或者更換。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述背景技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明提供一種低濃度次氯酸鈉和次氯酸消毒水的制備工藝,其可制備出次氯酸和次氯酸鈉兩種消毒液體供不同情況使用,現(xiàn)制現(xiàn)用,濃度可調(diào),使用操作簡單,打開水龍頭即可直接使用;此外,本發(fā)明還提供一種低濃度次氯酸鈉和次氯酸消毒水的制備設(shè)備。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
本發(fā)明的第一方面,提供一種低濃度次氯酸鈉和次氯酸消毒水的制備工藝,包括以下步驟:
S1、將稀鹽酸箱內(nèi)的稀鹽酸溶液通過管路輸送至次氯酸電解槽中進行電解反應(yīng),次氯酸電解槽中的稀鹽酸溶液電解生成次氯酸,并將生成的次氯酸溶液通過管路輸送至第一射流器內(nèi);
S2、將外部水源通過管路輸送至軟水器進行處理,軟水器通過第一出水管將軟化水部分輸送至溶鹽箱內(nèi),向溶鹽箱內(nèi)加入食鹽生成飽和食鹽水,溶鹽箱的出液端通過管路與次氯酸鈉電解槽的進液端相連通,其中,軟水器通過第二出水管將軟化水部分輸送至溶鹽箱的出液端和次氯酸鈉電解槽進液端之間的管路內(nèi),將軟化水作為稀釋水與飽和食鹽水混合形成稀鹽水溶液,稀鹽水溶液進入至次氯酸鈉電解槽中進行電解反應(yīng),次氯酸鈉電解槽中的稀鹽水溶液電解生成次氯酸鈉,并將生成的次氯酸鈉溶液通過管路輸送至第二射流器內(nèi);
S3、軟水器通過第三出水管和第四出水管分別將軟化水部分輸送至第一射流器和第二射流器內(nèi),軟化水作為稀釋水分別對電解生成的次氯酸溶液及次氯酸鈉溶液進行稀釋,經(jīng)過稀釋后的次氯酸溶液及次氯酸鈉溶液通過管路輸出進行使用。
其中,所述步驟S2中,稀鹽酸箱內(nèi)的稀鹽酸溶液通過另一管路輸送至次氯酸鈉電解槽中。次氯酸鈉電解槽長時間電解運行后,由于鹽水中的Ca+及Mg+沉積在陰極表面,在電極板表面形成垢層,影響電解槽的電流效率,因此需進行酸洗處理,而稀鹽酸箱內(nèi)的稀鹽酸溶液可作為次氯酸鈉電解槽的酸洗原料,通過管路輸送至次氯酸鈉電解槽中作為清洗劑使用,對次氯酸鈉電解槽進行周期性清洗保養(yǎng)。
其中,所述步驟S1中,稀鹽酸箱內(nèi)稀鹽酸溶液的濃度為5.5-6.5wt%。優(yōu)選地,稀鹽酸溶液的濃度為6wt%。通過設(shè)置,從而能夠為次氯酸電解槽提供濃度穩(wěn)定在一定范圍內(nèi)的稀鹽酸溶液,進而保證了通過電解槽電解產(chǎn)生的次氯酸溶液濃度的穩(wěn)定性,從而實現(xiàn)了對次氯酸溶液產(chǎn)生濃度的精準控制。
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