[發明專利]曝光裝置和曝光方法

在審

• 申請號: 202011336751.2
• 申請日: 2020-11-25
• 公開（公告）號: CN113448175A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 奧山隆志
• 申請（專利權）人: 株式會社ORC制作所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 崔成哲;黃綸偉

1.一種曝光裝置，其特征在于，具有：

光調制元件陣列，其由多個光調制元件呈二維地排列而成；

掃描部，其使相對于主掃描方向以規定的傾斜角度傾斜的所述光調制元件陣列的曝光區域相對于被描繪體在主掃描方向上進行相對移動；以及

曝光控制部，其按照規定的間距間隔對所述多個光調制元件進行調整，進行多重曝光動作，

所述曝光控制部在規定的單位曝光區域中，在沿著所述傾斜角度的多個曝光點線之間按照每次曝光動作切換規定曝光點的曝光點線。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光控制部在相鄰地排列的多個曝光點線之間依次切換曝光點線。

3.根據權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光控制部將在下一次曝光動作中曝光點會從所述規定的單位曝光區域離開的曝光點線切換為在下一次曝光動作中曝光點會在所述規定的單位曝光區域內移動的曝光點線。

4.根據權利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光控制部以使各曝光點線的曝光點間隔成為相等的間距間隔進行多重曝光動作。

5.根據權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光控制部以使相鄰的曝光點線的沿著主掃描方向的曝光點位置錯開的間距間隔進行多重曝光動作。

6.根據權利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光控制部在所述規定的單位曝光區域內，在第2k-1個曝光點線與第2k個曝光點線之間交替地切換曝光點線，其中，k＝1、2、…。

7.根據權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光控制部以使相鄰的曝光點線的沿著主掃描方向的曝光點位置成為相同的間距間隔的方式進行多重曝光動作。

8.根據權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，

所述曝光控制部在所述規定的單位曝光區域內，在第3k-2個曝光點線、第3k-1個曝光點線和第3k個曝光點線之間依次切換曝光點線，其中，k＝1、2、…。

9.根據權利要求1至8中的任意一項所述的曝光裝置，其特征在于，

如果設所述規定的間距間隔為P，設光調制元件的單位曝光區域為C，設m為2以上的整數，設n為任意的整數，設u為小于m的整數，設a為小于C的值，則P能夠以下式表示：

P＝(n+u/m)C+a。

10.一種曝光方法，其特征在于，

配置由多個光調制元件呈二維地排列而成的光調制元件陣列，

使所述光調制元件陣列的曝光區域相對于主掃描方向以規定的傾斜角度傾斜，使所述曝光區域相對于被描繪體在主掃描方向上進行相對移動，

按照規定的間距間隔對所述多個光調制元件進行調整，進行多重曝光動作，

在規定的單位曝光區域中，在沿著所述傾斜角度的多個曝光點線之間按照每次曝光動作切換規定曝光點的曝光點線。