[發明專利]一種等離子體處理裝置有效
| 申請號: | 202011334077.4 | 申請日: | 2020-11-24 |
| 公開(公告)號: | CN112750676B | 公開(公告)日: | 2022-07-08 |
| 發明(設計)人: | 崔都嵋 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示光電科技(中國)有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/32 | 分類號: | H01J37/32;C23C16/50;C23C16/52;C23C16/02 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 510530 廣東省廣州市廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子體 處理 裝置 | ||
1.一種等離子體處理裝置,其特征在于,包括:
反應腔室,用于進行等離子體反應;
上電極和下電極,所述上電極設置于所述反應腔室的頂部,所述下電極相對設置于所述反應腔室的底部;
第一溫度調節部和第二溫度調節部,所述第一溫度調節部和所述第二溫度調節部均設置于所述反應腔室的頂部,且所述第一溫度調節部在所述上電極所在平面的垂直投影位于所述上電極內,所述第二溫度調節部在所述上電極所在平面的垂直投影環繞所述上電極;
所述第一溫度調節部包括多個第一加熱部和多個第一冷卻部;所述多個第一加熱部在所述上電極所在平面的垂直投影均勻分布在所述上電極內,所述多個第一冷卻部在所述上電極所在平面的垂直投影均勻分布在所述上電極內;
所述第二溫度調節部包括第二加熱部和第二冷卻部,所述第二加熱部和所述第二冷卻部在所述上電極所在平面的垂直投影環繞所述上電極。
2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述多個第一加熱部在所述上電極所在平面的垂直投影,與所述多個第一冷卻部在所述上電極所在平面的垂直投影一一對應且均至少部分交疊。
3.根據權利要求2所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述多個第一加熱部呈陣列排布,或者,所述多個第一加熱部沿圓周均勻排布。
4.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述第一冷卻部和所述第二冷卻部均為冷卻管道;
相鄰的兩個所述第一冷卻部之間相互連通,相鄰的所述第一冷卻部和所述第二冷卻部之間相互連通,以使所述多個第一冷卻部和所述第二冷卻部形成一個連通管道,所述連通管道包括一個冷卻液進口和一個冷卻液出口;
相鄰的兩個所述第一加熱部相互連接,相鄰的所述第一加熱部和所述第二加熱部連接,以使所述多個第一加熱部和所述第二加熱部形成一個加熱網絡;
所述等離子體處理裝置還包括加熱控制部和冷卻供給部;所述加熱控制部與所述加熱網絡連接,用于控制所述加熱網絡加熱;所述冷卻供給部連接所述冷卻液進口和所述冷卻液出口,用于向所述連通管道提供冷卻液并驅動冷卻液循環。
5.根據權利要求4所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述等離子體處理裝置還包括溫度傳感器,所述溫度傳感器分別與所述加熱控制部和所述冷卻供給部電連接;
所述溫度傳感器用于檢測所述反應腔室的溫度;所述加熱控制部用于根據所述反應腔室的溫度,控制所述加熱網絡加熱,和/或,所述冷卻供給部用于根據所述反應腔室的溫度,驅動所述連通管道中的冷卻液循環。
6.根據權利要求4所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述第一冷卻部和所述第二冷卻部均為冷卻管道;所述第一冷卻部和所述第二冷卻部均包括一個冷卻液進口和一個冷卻液出口;
所述等離子體處理裝置還包括加熱控制部和冷卻供給部;所述加熱控制部分別與所述多個第一加熱部和所述第二加熱部連接,用于獨立控制所述第一加熱部和所述第二加熱部加熱;所述冷卻供給部分別連接所述多個第一冷卻部和所述第二冷卻部的所述冷卻液進口和所述冷卻液出口,用于獨立向所述第一冷卻部和所述第二冷卻部提供冷卻液并驅動冷卻液循環。
7.根據權利要求6所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述等離子體處理裝置還包括多個溫度傳感器,所述多個溫度傳感器均勻設置在所述反應腔室中,所述多個溫度傳感器分別與所述加熱控制部和所述冷卻供給部電連接;
所述溫度傳感器用于檢測所述反應腔室不同區域的溫度;所述加熱控制部用于根據所述反應腔室不同區域的溫度,控制對應位置的所述第一加熱部或所述第二加熱部加熱;和/或,所述冷卻供給部用于根據所述反應腔室不同區域的溫度,驅動對應位置的所述第一冷卻部或所述第二冷卻部中的冷卻液循環。
8.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述第一加熱部和所述第二加熱部為電熱絲或電熱板。
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