[發明專利]一種大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層及其制備方法和應用在審
| 申請號： | 202011329152.8 | 申請日： | 2020-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN112442671A | 公開（公告）日： | 2021-03-05 |
| 發明（設計）人： | 彭長明 | 申請（專利權）人： | 創隆實業（深圳）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/08;C23C14/10 |
| 代理公司： | 北京權智天下知識產權代理事務所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 王新愛 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 大功率 磁控濺射 pvd 綠色 涂層 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層，其特征在于，所述大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層是由鈦硅底層和氧化鈦+氧化硅的復合涂層構成，所述復合涂層是由n個氧化鈦+氧化硅涂層組成，n為大于或等于1的整數。
2.根據權利要求1所述的大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層，其特征在于，所述n等于1。
3.根據權利要求1所述的大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層，其特征在于，所述n為大于1的整數。
4.權利要求1-3任一項所述大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層的制備方法，其特征在于，所述方法包含以下步驟：
(1)采用80A電流磁控濺射鈦靶和硅靶沉積鈦硅底層，通入300sccm氬氣，偏壓80V，占空比50％，時長5分鐘；
(2)采用80A電流磁控濺射鈦靶沉積氧化鈦涂層，通入300sccm氧氣，偏壓80V，占空比30％，時長35分鐘；
(3)采用80A電流磁控濺射硅靶沉積氧化硅涂層，通入200sccm氧氣，偏壓80V，占空比30％，時長46分鐘；
其中，所述步驟(3)之后重復步驟(2)-(3)，重復次數為n-1。
5.根據權利要求4所述大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層的制備方法，其特征在于，所述重復次數為0。
6.根據權利要求4所述大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層的制備方法，其特征在于，所述重復次數為n-1，且n為大于1的整數。
7.權利要求1-3任一項所述大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層的應用，其特征在于，所述應用為將所述PVD炫綠色涂層用于金屬、金屬化合物或無機材料中的一種基材或多種基材上。
8.根據權利要求7所述大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層的應用，其特征在于，所述應用為將所述PVD炫綠色涂層用于金屬或金屬化合物上。
9.根據權利要求7所述大功率磁控濺射靶PVD炫綠色涂層的應用，其特征在于，所述應用為將所述PVD炫綠色涂層用于不銹鋼上。
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