[發明專利]一種新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置

在審

• 申請號: 202011323532.0
• 申請日: 2020-11-23
• 公開（公告）號: CN112388810A
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 馮飛飛
• 申請（專利權）人: 廣州元開科技技術有限公司
• 主分類號: B28B11/04
• 分類號: B28B11/04
• 代理公司: 北京高航知識產權代理有限公司 11530
• 代理人: 喬浩剛

本發明涉及新材料技術領域，且公開了一種新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置，包括箱體，所述活動桿的下端固定連接有雙面卡齒，所述雙面卡齒的外部嚙合連接有驅動齒輪，所述雙面卡齒的下端活動套接有支撐桿，所述雙面卡齒的下端套接有卡接盤，所述卡接盤的兩端固定連接有電磁鐵，所述滑桿的上端活動連接有放置盤，所述放置盤的兩端活動連接有夾持塊，所述夾持塊的內部固定連接有永磁鐵，所述推桿的外部固定連接有定位裝置，所述離心裝置的外部固定連接有金屬條，所述箱體的內部固定連接有加熱裝置，所述箱體的內部固定連接有上釉噴頭。該裝置具有可一邊旋轉一邊進行上釉，同時在上釉完畢后對其表面進行烘烤，使其表面均勻上釉的優點。

技術領域

本發明涉及新材料技術領域，具體為一種新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置。

背景技術

碳化硅陶瓷是一種新型材料，不僅在常溫下擁有良好的力學性能，而且當其處于高溫時，在陶瓷中的力學性能也是已知中最佳的，而在碳化硅的生產過程中需要對其表面進行上釉處理，從而可以進一步提高耐高溫性能，而現如今的上釉裝置常會出現上釉不均勻，同時由于表面干燥的速度慢，導致表面釉質流動，使其表面凹凸不平，大大降低總體耐高溫性能。

發明內容

針對現有技術的不足，本發明提供了一種新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置，該裝置具有可一邊旋轉一邊進行上釉，同時在上釉完畢后對其表面進行烘烤，使其表面均勻上釉的優點。

技術方案

為解決上述問題，本發明提供如下技術方案：一種新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置，包括箱體，所述箱體的內部活動連接有活動桿，所述活動桿的下端固定連接有雙面卡齒，所述雙面卡齒的外部嚙合連接有驅動齒輪，所述雙面卡齒的下端活動套接有支撐桿，所述雙面卡齒的下端套接有卡接盤，所述卡接盤的兩端固定連接有電磁鐵，所述箱體的下端滑動連接有滑桿，所述滑桿的上端活動連接有放置盤，所述放置盤的兩端活動連接有夾持塊，所述夾持塊的內部固定連接有永磁鐵，所述永磁鐵的外部固定連接有推桿，所述推桿的外部固定連接有定位裝置，所述放置盤的下端活動連接有旋轉軸，所述旋轉軸的外部套接有離心裝置，所述離心裝置的外部固定連接有金屬條，所述箱體的內部固定連接有加熱裝置，所述箱體的內部固定連接有上釉噴頭。

優選的，所述滑桿與離心裝置的內部均固定連接有永磁鐵。

優選的，所述定位裝置的內部固定連接有電磁鐵與永磁鐵。

優選的，所述旋轉軸的下端與驅動齒輪的外部均活動連接有電機。

優選的，所述金屬條與電磁鐵和驅動齒輪外部連接的電機均屬于電連接關系。

優選的，所述箱體的下端開設有排水槽。

優選的，所述卡接盤兩端的電磁鐵與夾持塊內部連接的永磁鐵位置相對應。

有益效果

與現有技術相比，本發明提供了一種新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置，具備以下有益效果：

1、該新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置，通過雙面卡齒、驅動齒輪、卡接盤與電磁鐵的配合使用，當將碳化硅陶瓷放在指定位置時，驅動齒輪帶動雙面卡齒向下移動使卡接盤與碳化硅陶瓷進行卡接定位，同時電磁鐵通電使與夾持塊內部的永磁鐵互相吸引使其能夠保證陶瓷的穩定性，達到了可以確保在上釉過程中陶瓷不會移動的效果。

2、該新型碳化硅陶瓷表面自動均勻上釉裝置，通過放置盤、定位裝置、離心裝置與金屬條的配合使用，通過離心裝置旋轉使金屬條的位置發生變化，從而使金屬條切割離心裝置內部的永磁鐵與滑桿內部的永磁鐵產生的磁感線，使且產生感應電流，從而使定位裝置將陶瓷卡緊，同時上釉噴頭開始上釉，在旋轉軸的旋轉帶動下使陶瓷上釉更加均勻，達到了上釉均勻且實現自動化的效果。

附圖說明

圖1為本發明總體結構示意圖；