[發明專利]一種投影拼接方法和系統及設備

在審

• 申請號: 202011319136.0
• 申請日: 2020-11-23
• 公開（公告）號: CN114529448A
• 公開（公告）日: 2022-05-24
• 發明（設計）人: 黃濤;羅堯;季云
• 申請（專利權）人: 華強方特（深圳）科技有限公司
• 主分類號: G06T3/40
• 分類號: G06T3/40;H04N9/31
• 代理公司: 深圳市深軟翰琪知識產權代理有限公司 44380
• 代理人: 吳雅麗

1.一種投影拼接方法，其特征在于，所述方法包括：

在第一投影底片中選取第一小塊，在第二投影底片中選取第二小塊，所述第一小塊和所述第二小塊分別為第一投影底片和第二投影底片的待重合區域中的具有相同畫面的多邊形小塊；

獲取所述第一小塊包含的像素點在第一投影底片上的像素坐標組成的坐標矩陣；

調節所述第一小塊的頂點在第一投影底片上的像素坐標，以使所述第一小塊和所述第二小塊在銀幕上的投影重合；

獲取調節后的所述第一小塊包含的像素點在第一投影底片上的像素坐標組成的坐標矩陣；

基于所述第一小塊調節前后坐標矩陣建立第一單應性變換矩陣；

利用所述第一單應性變換矩陣調節所述第一投影底片的所述第一小塊所在畫面區域。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

獲取所述第二小塊包含的像素點在第二投影底片上的像素坐標組成的坐標矩陣；

在調節所述第一小塊的頂點在第一投影底片上的像素坐標的情況下，調節所述第二小塊的頂點在第二投影底片上的像素坐標；

獲取調節后的所述第二小塊包含的像素點在第二投影底片上的像素坐標組成的坐標矩陣；

基于所述第二小塊調節前后坐標矩陣建立第二單應性變換矩陣；

利用所述第二單應性變換矩陣調節所述第二投影底片的所述第二小塊所在畫面區域。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，

還包括：獲取所述第一投影底片上的像素點到銀幕上的投影位置點的第一投射關系f1，以及，所述第二投影底片上的像素點到銀幕上的投影位置點的第二投射關系f2；

所述利用所述第一單應性變換矩陣調節所述第一投影底片的所述第一小塊所在畫面區域，包括：將所述第一投影底片的所述第一小塊所在畫面區域按照所述第一單應性變換矩陣變換，然后按照第一投射關系f1投射到銀幕上；

所述利用所述第二單應性變換矩陣調節所述第二投影底片的所述第二小塊所在畫面區域，包括：將所述第二投影底片的所述第二小塊所在畫面區域按照所述第二單應性變換矩陣變換，然后按照第二投射關系f2投射到銀幕上。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

預先將所述第一投影底片的待重合區域劃分為n個A小塊，將所述第二投影底片的待重合區域劃分為n個B小塊，n個A小塊與n個B小塊一一對應，相對應的A小塊和B小塊具有相同畫面；所述第一小塊是n個A小塊中的任一小塊，所述第二小塊是與所述第一小塊對應的、具有相同畫面的B小塊。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述第一小塊和所述第二小塊均為三角形小塊或四邊形小塊。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取所述第一小塊包含的像素點在第一投影底片上的像素坐標組成的坐標矩陣，具體包括：

所述第一小塊的每個頂點為一個像素點，獲取所述第一小塊各頂點在第一投影底片上的像素坐標，并用所述第一小塊各頂點的像素坐標組成的坐標矩陣，表示所述第一小塊。

7.一種投影拼接系統，其特征在于，所述系統包括：

獲取模塊，用于在第一投影底片中選取第一小塊，在第二投影底片中選取第二小塊，所述第一小塊和所述第二小塊分別為第一投影底片和第二投影底片的待重合區域中的具有相同畫面的多邊形小塊；獲取所述第一小塊包含的像素點在第一投影底片上的像素坐標組成的坐標矩陣；

調節模塊，用于調節所述第一小塊的頂點在第一投影底片上的像素坐標，以使所述第一小塊和所述第二小塊在銀幕上的投影重合；

所述獲取模塊，還用于獲取調節后的所述第一小塊包含的像素點在第一投影底片上的像素坐標組成的坐標矩陣；

建立模塊，用于基于所述第一小塊調節前后坐標矩陣建立第一單應性變換矩陣；

調試模塊，用于后續投影時，利用所述第一單應性變換矩陣調節所述第一投影底片的所述第一小塊所在畫面區域。