[發明專利]影像感測元件及其制作方法在審
| 申請號: | 202011318904.0 | 申請日: | 2020-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN114530465A | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發明(設計)人: | 詹兆堯;丁乾威;蔣曉宏;戴錦華 | 申請(專利權)人: | 聯華電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146;H01L27/30 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 影像 元件 及其 制作方法 | ||
1.一種影像感測元件,其特征在于,包含:
基底;
第一電路層,位于該基底上;以及
至少一納米線感光二極管,位于該第一電路層上并且與該第一電路層電連接,其中該納米線感光二極管包含有下方材料層以及上方材料層,該下方材料層與該上方材料層之間具有P-N結或者蕭特基結(Schottky junction),其中該下方材料層包含有鈣鈦礦(perovskite)材質。
2.如權利要求1所述的影像感測元件,其中該鈣鈦礦(perovskite)材質的分子式通式為ABX3,其中A包含甲基胺離子、甲脒離子、金屬銫離子(Cs+),B包含金屬陽離子(Pb2+,Sn2+,Bi2+),X包含鹵素陰離子(Cl-,Br-,I-)。
3.如權利要求2所述的影像感測元件,其中該鈣鈦礦(perovskite)材質包含MAPbI3(甲基氨基碘化鉛)、FASnCl3、FASnBr3、FASnI3、FASnClxBryI3-x-y、MASnCl3、MASnBr3、MASnI3、MASnClxBryI3-x-y、CsSnCl3、CsSnBr3、CsSnI3、CsSnClxBryI3-x-y、FAPbCl3、FAPbBr3、FAPbI3、FAPbClxBryI3-x-y、MAPbCl3、MAPbBr3、MAPbI3、MAPbClxBryI3-x-y、CsPbCl3、CsPbBr3、CsPbI3、CsPbClxBryI3-x-y、FABiCl3、FABiBr3、FABiI3、FABiClxBryI3-x-y、MABiCl3、MABiBr3、MABiI3、MABiClxBryI3-x-y、CsBiCl3、CsBiBr3、CsBiI3、CsBiClxBryI3-x-y,其中所述參數x與y介于0到3的范圍。
4.如權利要求1所述的影像感測元件,其中該鈣鈦礦材質包含N型導電型態,該上方材料層具有P型導電型態。
5.如權利要求1所述的影像感測元件,其中該上方材料層包含金屬氧化物層。
6.如權利要求5所述的影像感測元件,其中該上方材料層包含MnO3(三氧化鉬)、V2O5、WO3、Si、Ge、GaAs、GaN、WSe2、NiO、Cu2O、CuO、TCNQ(Tetracyanoquinodimethane,四氰基對苯二醌二甲烷)、F4-TCNQ。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





