[發明專利]一種可直接溶于堿液的中性甲殼素及其制備方法有效
| 申請號: | 202011318331.1 | 申請日: | 2020-11-23 |
| 公開(公告)號: | CN112321749B | 公開(公告)日: | 2023-05-23 |
| 發明(設計)人: | 劉廷國;魏美佳;趙緣 | 申請(專利權)人: | 池州學院 |
| 主分類號: | C08B37/08 | 分類號: | C08B37/08 |
| 代理公司: | 北京鑫瑞森知識產權代理有限公司 11961 | 代理人: | 劉晶 |
| 地址: | 247100 *** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 直接 中性 甲殼素 及其 制備 方法 | ||
1.一種可直接溶于堿液的中性甲殼素,其特征在于,所述甲殼素為中性,其脫乙酰度為23.90-41.22%,在不需添加任何輔助試劑,亦不借助任何輔助手段的條件下,可直接溶解于質量濃度不小于20wt%的NaOH或NaOD溶液,且溶解后可稀釋到任意濃度使用,使用乙酸或丙烯酸將pH值重新調整至中性或酸性也不會有甲殼素沉淀析出;
所述中性甲殼素的制備方法包括如下步驟:
步驟一:將脫乙酰度低于15%的商品甲殼素或其超聲處理產物與3-8倍甲殼素質量、質量濃度為30-50wt%的NaOH水溶液混合;所述超聲處理產物通過稱取原料甲殼素分散于2mol/L?HCl溶液中,置超聲波清洗器中超聲處理2h,過濾后將濾餅洗滌至中性,60℃真空干燥獲得;
步驟二:將上述混合物經過至少兩次淺凍、融化和非均相脫乙酰循環處理以破壞甲殼素致密的晶體結構;
所述淺凍處理是指將混合物冷卻至零下15-零下18℃,并放置8h后取出;所述非均相脫乙酰處理是指將解凍后的混合物在40-60℃加熱60-120min;
步驟三:向上述處理好的混合物中加入純水,充分攪拌后得到堿性水溶膠;
所述堿性水溶膠中甲殼素的質量濃度為3-4wt%,堿溶液的質量濃度為4.8-10wt%;
步驟四:將得到的水溶膠進行均相脫乙酰處理,控制產物脫乙酰度為23.90-41.22%;
所述均相脫乙酰處理溫度在25℃,時間為24-44h;
步驟五:將上述處理好的水溶膠用乙醇沉淀,經鹽酸中和至中性,用純水洗滌至無氯離子殘留;
步驟六:將上述處理好的產物經脫水、干燥處理得到可直接溶于堿液的中性甲殼素。
2.權利要求1所述的中性甲殼素的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟一:將脫乙酰度低于15%的商品甲殼素或其超聲處理產物與3-8倍甲殼素質量、質量濃度為30-50wt%的NaOH水溶液混合;所述超聲處理產物通過稱取原料甲殼素分散于2mol/L?HCl溶液中,置超聲波清洗器中超聲處理2h,過濾后將濾餅洗滌至中性,60℃真空干燥獲得;
步驟二:將上述混合物經過至少兩次淺凍、融化和非均相脫乙酰循環處理以破壞甲殼素致密的晶體結構;
所述淺凍處理是指將混合物冷卻至零下15-零下18℃,并放置8h后取出;所述非均相脫乙酰處理是指將解凍后的混合物在40-60℃加熱60-120min;
步驟三:向上述處理好的混合物中加入純水,充分攪拌后得到堿性水溶膠;
所述堿性水溶膠中甲殼素的質量濃度為3-4wt%,堿溶液的質量濃度為4.8-10wt%;
步驟四:將得到的水溶膠進行均相脫乙酰處理,控制產物脫乙酰度為23.90-41.22%;
所述均相脫乙酰處理溫度在25℃;
步驟五:將上述處理好的水溶膠用乙醇沉淀,經鹽酸中和至中性,用純水洗滌至無氯離子殘留;
步驟六:將上述處理好的產物經脫水、干燥處理得到可直接溶于堿液的中性甲殼素。
3.根據權利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述步驟一中溶液的水分含量控制在剛好使甲殼素浸潤而無流動性,最有利于后期溶解。
4.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,所述步驟六中脫水處理采用無水乙醇、甲醇或丙酮脫水,其干燥處理采用在40-60℃下進行真空干燥或者采用冷凍干燥。
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