[發(fā)明專利]無機(jī)片狀材料及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011312000.7
• 申請(qǐng)日: 2020-11-20
• 公開（公告）號(hào): CN112537757A
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柳繼成;穆彬;張海濱;郭永城;龔昌港;霍海元;李善云;溫正助;鄭潔;孔令利
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江瑞成新材料股份有限公司
• 主分類號(hào): C01B13/14
• 分類號(hào): C01B13/14;C01B33/18;C01G23/053;C01F7/02;C01G25/02;C01G19/02
• 代理公司: 廈門仕誠(chéng)聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35227
• 代理人: 吳圳添

1.一種無機(jī)片狀材料的制備方法，其特征在于，包括：

在表面具有周期性排列微結(jié)構(gòu)的模板上，涂覆無機(jī)片狀材料前驅(qū)體溶液，所述微結(jié)構(gòu)具有光子晶體結(jié)構(gòu)性質(zhì)；

去除所述無機(jī)片狀材料前驅(qū)體溶液的溶劑，得到無機(jī)片狀材料涂層；

將所述無機(jī)片狀材料涂層從所述模板上剝離下來，得到所述無機(jī)片狀材料。

2.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述模板為全息鐳射薄膜或全息鐳射金屬板。

3.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述微結(jié)構(gòu)的尺寸在200nm至1000nm之間，所述光子晶體結(jié)構(gòu)性質(zhì)為二維光子晶體結(jié)構(gòu)性質(zhì)。

4.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述無機(jī)片狀材料前驅(qū)體溶液為含有金屬氧化物、金屬鹽或金屬氫氧化物的溶液；所述無機(jī)片狀材料前驅(qū)體溶液為水溶液或者有機(jī)溶液。

5.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述無機(jī)片狀材料前驅(qū)體溶液為下列溶液中的一種溶液，或者下列溶液中兩種以上的混合溶液：

二氧化硅前驅(qū)體溶液；

二氧化鈦前驅(qū)體溶液；

三氧化二鋁前驅(qū)體溶液；

二氧化鋯前驅(qū)體溶液；

二氧化錫前驅(qū)體溶液；

三氧化二硼前驅(qū)體溶液；

氧化銦前驅(qū)體溶液；

氧化鋅前驅(qū)體溶液；

三氧化二鐵前驅(qū)體溶液。

6.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，通過刮擦、沖洗或超聲方法，將所述無機(jī)片狀材料涂層從所述模板上剝離下來。

7.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，在所述模板上涂覆所述無機(jī)片狀材料前驅(qū)體溶液之前，還包括：在所述模板上涂覆助剝層。

8.如權(quán)利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述助剝層為水溶性高分子涂層。

9.如權(quán)利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述水溶性高分子涂層為聚乙烯吡咯烷酮涂層或聚乙烯醇涂層。

10.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法為連續(xù)生產(chǎn)方法，其中：所述模板為連續(xù)基材，所述模板各個(gè)部分以分段方式，依次連續(xù)進(jìn)行所述無機(jī)片狀材料前驅(qū)體溶液的涂覆，所述溶劑的去除，以及所述無機(jī)片狀材料涂層的剝離。

11.一種無機(jī)片狀材料，其特征在于，所述無機(jī)片狀材料的表面具有周期性排列微結(jié)構(gòu)，所述微結(jié)構(gòu)具有光子晶體結(jié)構(gòu)性質(zhì)。

12.如權(quán)利要求11所述的無機(jī)片狀材料，其特征在于，所述微結(jié)構(gòu)的尺寸在200nm至1000nm之間，所述光子晶體結(jié)構(gòu)性質(zhì)為二維光子晶體結(jié)構(gòu)性質(zhì)，所述無機(jī)片狀材料的粒徑分布為5μm至1000μm。