[發(fā)明專利]一種DDR分子篩的制備方法及其應(yīng)用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011311002.4
• 申請日: 2020-11-20
• 公開（公告）號: CN114516639A
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 洪楊;閆娜娜;郭鵬;田鵬;劉中民
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院大連化學(xué)物理研究所
• 主分類號: C01B39/04
• 分類號: C01B39/04;B01D53/02;B01J29/03;B01J29/70
• 代理公司: 北京元周律知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11540
• 代理人: 楊曉云

1.一種DDR分子篩的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

a)將硅源、鋁源、模板劑R、堿金屬離子源和水混合，得到初始混合物I；

在所述初始混合物I中，所述水、硅源、鋁源、模板劑R和堿金屬離子源的摩爾比為：

H₂O/SiO₂＝0.3～5；

Al₂O₃/SiO₂＝0～0.1；

MOH/SiO₂＝0～0.025；其中M為堿金屬；

R/SiO₂＝0.01～2；

其中，水以H₂O自身的摩爾數(shù)計，硅源以SiO₂的摩爾數(shù)計，鋁源以Al₂O₃的摩爾計數(shù)，模板劑R以R自身的摩爾數(shù)計；

b)將所述初始混合物I晶化，即可得到所述DDR分子篩。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

a)將硅源、模板劑R和水混合，得到初始混合物II；

在所述初始混合物II中，所述水、硅源、模板劑R的摩爾比為：

H₂O/SiO₂＝0.3～5；

R/SiO₂＝0.01～2；

其中，水以H₂O自身的摩爾數(shù)計，硅源以SiO₂的摩爾數(shù)計，模板劑R以R自身的摩爾數(shù)計；

b)將所述初始混合物II晶化，即可得到所述DDR分子篩；

所述DDR分子篩為純硅分子篩。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述方法包括：

a)將硅源、鋁源、模板劑R、堿金屬離子源和水混合，得到初始混合物III；

在所述初始混合物III中，所述水、硅源、鋁源、模板劑R和堿金屬離子源的摩爾比為：

H₂O/SiO₂＝0.3～5；

Al₂O₃/SiO₂＝0.01～0.1；

MOH/SiO₂＝0.01～0.025；其中M為堿金屬；

R/SiO₂＝0.01～2；

其中，水以H₂O自身的摩爾數(shù)計，硅源以SiO₂的摩爾數(shù)計，鋁源以Al₂O₃的摩爾計數(shù)，模板劑R以R自身的摩爾數(shù)計；

b)將所述初始混合物III晶化，即可得到所述DDR分子篩；

所述DDR分子篩為硅鋁分子篩；

優(yōu)選地，所述硅鋁分子篩的硅鋁比大于等于13。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，在所述初始混合物II中，還包括堿金屬離子源；

所述堿金屬離子源的加入量為：MOH/SiO₂＝0.01～0.025。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述晶化的條件為：晶化溫度為160℃～200℃；晶化時間為1-8天。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法，其特征在于，在所述初始混合物II中，還包括晶種；所述晶種選自DD3R；

優(yōu)選地，所述晶種的加入量為所述初始混合物II中硅源質(zhì)量的0.01～1；

所述硅源質(zhì)量以SiO₂的質(zhì)量計。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法，其特征在于，在所述初始混合物III中，還包括晶種；所述晶種選自Sigma-1；

優(yōu)選地，所述晶種的加入量為所述初始混合物III中硅源質(zhì)量的0.01～1；

所述硅源質(zhì)量以SiO₂的質(zhì)量計。