[發(fā)明專利]氣體滅弧室有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011308960.6 | 申請日: | 2020-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN112331517B | 公開(公告)日: | 2023-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 朱凱;張文兵;成勇;嚴(yán)旭;馬沖;呂軍玲;路媛婧 | 申請(專利權(quán))人: | 西安西電開關(guān)電氣有限公司;中國西電電氣股份有限公司 |
| 主分類號: | H01H33/22 | 分類號: | H01H33/22;H01H33/64;H01H9/52 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 陳翠蘭 |
| 地址: | 710077 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣體 滅弧室 | ||
本發(fā)明涉及斷路器滅弧技術(shù)領(lǐng)域,具體地說,涉及一種氣體滅弧室,其包括第一燃弧環(huán)和第二燃弧環(huán),第一燃弧環(huán)和第二燃弧環(huán)之間形成電弧區(qū)域,電弧區(qū)域一側(cè)設(shè)有氣旋通道,氣旋通道一側(cè)設(shè)有膨脹室;電弧區(qū)域另一側(cè)設(shè)有動觸頭,第一燃弧環(huán)和第二燃弧環(huán)中的至少一個與動觸頭滑動接觸;氣旋通道中設(shè)有用于改變氣體方向形成旋轉(zhuǎn)分量的導(dǎo)流片。本發(fā)明能夠提高電弧區(qū)域過零后介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及斷路器滅弧技術(shù)領(lǐng)域,具體地說,涉及一種氣體滅弧室。
背景技術(shù)
SF6作為一種優(yōu)良的絕緣和滅弧介質(zhì),被廣泛應(yīng)用于高壓斷路器。發(fā)電機(jī)斷路器用于各類發(fā)電廠機(jī)組啟停和重要設(shè)備保護(hù)之中,200MW以上機(jī)組一般采用交流SF6發(fā)電機(jī)斷路器。
35kV~1000kV交流輸電網(wǎng)使用的線路斷路器,其最大短路開斷電流一般為63kA,滅弧室原理主要為壓氣式和自能膨脹式。前者利用操動結(jié)構(gòu)推動活塞壓縮壓氣室內(nèi)氣體吹滅電弧,后者則在壓氣室和電弧區(qū)域之間增添了膨脹室,利用大電流期間電弧自身能量提高膨脹室氣壓,即膨脹室儲存電弧區(qū)域擴(kuò)散的熱氣,在此過程中其氣壓得以提升,電流過零期間電弧區(qū)域氣壓降低,膨脹室內(nèi)高壓氣體返流至電弧區(qū)域冷卻和熄滅電弧。因此,燃弧期間氣室內(nèi)氣體狀態(tài)特別是平均溫度,以及電流過零期間的氣吹形式對弧隙介質(zhì)冷卻效果的充分發(fā)揮具有極其重要的作用。
由于交流SF6發(fā)電機(jī)斷路器短路開斷電流高達(dá)數(shù)十到數(shù)百kA,電弧熱效應(yīng)極其顯著,為了有效利用電弧自身能量開斷故障電流,一般采用自能膨脹滅弧原理??紤]到發(fā)電機(jī)斷路器電弧能量巨大,即便采用自能膨脹原理,膨脹室的氣溫會較高。由于短路電流大,膨脹室容積也大,因此冷熱態(tài)氣體是否混勻?qū)τ诤笃陔娏鬟^零期間電弧區(qū)域的冷卻影響較大。電流過零期間,膨脹室在大電流期間貯存的高壓氣體將回流至電弧區(qū)域以吹滅電弧,因此氣吹形式包括速度同樣對電弧區(qū)域的冷卻影響較大。冷卻程度則與電弧區(qū)域介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度也即電流開斷能力直接相關(guān)(相同氣體介質(zhì),溫度越低、壓力越高,介質(zhì)承受電壓而不擊穿的能力越強(qiáng))。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的內(nèi)容是提供一種氣體滅弧室,其能夠克服現(xiàn)有技術(shù)的某種或某些缺陷。
根據(jù)本發(fā)明的一種氣體滅弧室,其包括第一燃弧環(huán)和第二燃弧環(huán),第一燃弧環(huán)和第二燃弧環(huán)之間形成電弧區(qū)域,電弧區(qū)域一側(cè)設(shè)有氣旋通道,氣旋通道一側(cè)設(shè)有膨脹室;電弧區(qū)域另一側(cè)設(shè)有動觸頭,第一燃弧環(huán)和第二燃弧環(huán)中的至少一個與動觸頭滑動接觸;
氣旋通道中設(shè)有用于改變氣體方向形成旋轉(zhuǎn)分量的導(dǎo)流片。
作為優(yōu)選,導(dǎo)流片的數(shù)量至少有兩個。
作為優(yōu)選,氣旋通道整體呈旋轉(zhuǎn)對稱結(jié)構(gòu),第一燃弧環(huán)、第二燃弧環(huán)、氣旋通道和膨脹室共軸線A并沿軸線A依次排列。
作為優(yōu)選,導(dǎo)流片表面為平面或者曲面。
作為優(yōu)選,導(dǎo)流片表面沿軸線A方向的切線與軸線A具有夾角,夾角范圍為0°~45°。
作為優(yōu)選,導(dǎo)流片表面垂直于軸線A方向的切線與軸線A的空間距離范圍為0~R/2,R為氣旋通道的內(nèi)徑。
作為優(yōu)選,導(dǎo)流片的徑向靠近軸線A一側(cè)可達(dá)到或不達(dá)到軸線A所在位置,即數(shù)個導(dǎo)流片可接觸或不接觸。
作為優(yōu)選,氣旋通道內(nèi)部包括空心環(huán)狀的壁面,導(dǎo)流片位于壁面內(nèi),壁面設(shè)有卡槽,導(dǎo)流片旋入對應(yīng)卡槽內(nèi),氣旋通道一側(cè)設(shè)有壓環(huán),壓環(huán)可壓住導(dǎo)流片。
作為優(yōu)選,氣旋通道一側(cè)設(shè)有多個固定孔,固定孔配合有螺釘,固定孔和螺釘?shù)呐浜峡蓪涵h(huán)固定在氣旋通道上。
作為優(yōu)選,卡槽旋轉(zhuǎn)對稱分布,卡槽槽口外徑側(cè)的寬度大于內(nèi)徑側(cè)的寬度。
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