[發明專利]光學結構投影幕布在審
| 申請號： | 202011308462.1 | 申請日： | 2020-11-19 |
| 公開（公告）號： | CN112305849A | 公開（公告）日： | 2021-02-02 |
| 發明（設計）人： | 郭濱剛 | 申請（專利權）人： | 深圳市光科全息技術有限公司 |
| 主分類號： | G03B21/602 | 分類號： | G03B21/602 |
| 代理公司： | 深圳中細軟知識產權代理有限公司 44528 | 代理人： | 孫凱樂 |
| 地址： | 518054 廣東省深圳市南山區粵海街道粵興三*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 結構 投影 幕布 | ||
1.一種光學結構投影幕布，其特征在于，包括基材層和光學結構層；
所述光學結構層包括多個設置在所述基材層上的長條狀的凹面鏡結構，所述凹面鏡結構遠離所述基材層的一面為反射光的凹面，所述凹面上設有抗光結構。
2.根據權利要求1所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述抗光結構為長條狀，所述抗光結構的長度方向與所述凹面鏡結構的長度方向平行。
3.根據權利要求2所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述抗光結構設置在所述凹面的下方。
4.根據權利要求1～3中任意一項所述的光學結構投影幕布，其特征在于，多個所述凹面鏡結構彼此平行，并且多個所述凹面鏡結構沿著所述凹面鏡結構的寬度方向依次設置。
5.根據權利要求4所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述凹面鏡結構的寬度為200μm～300μm，所述凹面鏡結構的深度為50μm～100μm。
6.根據權利要求5所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述抗光結構的寬度為10μm～20μm。
7.根據權利要求4所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述抗光結構的截面為三角形、橢圓形、半圓形、梯形或矩形。
8.根據權利要求4所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述凹面為圓柱凹面或V形凹面。
9.根據權利要求4所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述抗光結構為UV墨水打印形成的黑色光柵。
10.根據權利要求4所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述凹面鏡結構的寬度方向與所述光學結構投影幕布的豎直方向平行。
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