[發(fā)明專利]光學結構投影幕布在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011308443.9 | 申請日： | 2020-11-19 |
| 公開（公告）號： | CN112305848A | 公開（公告）日： | 2021-02-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 郭濱剛 | 申請（專利權）人： | 深圳市光科全息技術有限公司 |
| 主分類號： | G03B21/602 | 分類號： | G03B21/602 |
| 代理公司： | 深圳中細軟知識產權代理有限公司 44528 | 代理人： | 孫凱樂 |
| 地址： | 518054 廣東省深圳市南山區(qū)粵海街道粵興三*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學 結構 投影 幕布 | ||
1.一種光學結構投影幕布，其特征在于，包括基材層和光學結構層；
所述光學結構層包括多個設置在所述基材層上的長條狀的凹面鏡結構，所述凹面鏡結構遠離所述基材層的一面為反射光的凹面。
2.根據(jù)權利要求1所述的光學結構投影幕布，其特征在于，多個所述凹面鏡結構彼此平行，并且多個所述凹面鏡結構沿著所述凹面鏡結構的寬度方向依次設置。
3.根據(jù)權利要求2所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述凹面為圓柱凹面或V形凹面。
4.根據(jù)權利要求3所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述凹面鏡結構的寬度為200μm～300μm，所述凹面鏡結構的深度為50μm～100μm。
5.根據(jù)權利要求2所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述凹面鏡結構的寬度方向與所述光學結構投影幕布的豎直方向平行。
6.根據(jù)權利要求1～5中任意一項所述的光學結構投影幕布，其特征在于，多個所述凹面鏡結構間隔設置在所述基材層上。
7.根據(jù)權利要求6所述的光學結構投影幕布，其特征在于，相鄰的兩個所述凹面鏡結構之間間隔10μm～20μm。
8.根據(jù)權利要求6所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述光學結構層還包括設置在所述基材層上的多個抗光結構，所述抗光結構位于相鄰的兩個所述凹面鏡結構之間。
9.根據(jù)權利要求8所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述抗光結構為長條狀，所述抗光結構的寬度為10μm～20μm，相鄰的兩個所述凹面鏡結構之間設置有一個所述抗光結構。
10.根據(jù)權利要求9所述的光學結構投影幕布，其特征在于，所述抗光結構為UV墨水打印形成的黑色光柵。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市光科全息技術有限公司，未經(jīng)深圳市光科全息技術有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011308443.9/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種序列QoS驅動的服務集成方法
- 下一篇：光學結構投影幕布
