[發明專利]苯二甲撐二異氰酸酯組合物、苯二甲撐二異氰酸酯改性物組合物、二液型樹脂原料及樹脂

在審

• 申請號: 202011306737.8
• 申請日: 2018-04-09
• 公開（公告）號: CN112480363A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 山崎聰;長谷川大輔;森田廣一;大冢英晶;中嶋辰也;島川千年;隈茂教;佐佐木祐明
• 申請（專利權）人: 三井化學株式會社
• 主分類號: C08G18/76
• 分類號: C08G18/76;C08G18/71;C09D175/04;G02B1/04
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 李國卿

1.苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，包含苯二甲撐二異氰酸酯、和下述化學式(1)所示的化合物，下述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且60ppm以下，

化學式(1)

[化學式1]

2.如權利要求1所述的苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，還包含氯甲基芐基異氰酸酯，所述氯甲基芐基異氰酸酯的含有比例為0.2ppm以上且3000ppm以下。

3.如權利要求2所述的苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述氯甲基芐基異氰酸酯的含有比例為0.2ppm以上且1600ppm以下。

4.如權利要求1～3中任一項所述的苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，下述化學式(3)所示的氰基芐基異氰酸酯的含有比例小于300ppm，

化學式(3)

[化學式3]

5.如權利要求1～4中任一項所述的苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，苯二甲撐二異氰酸酯的含有比例為99質量％以上。

6.苯二甲撐二異氰酸酯改性物組合物，其是權利要求1～5中任一項所述的苯二甲撐二異氰酸酯組合物被改性而得到的改性物組合物，其特征在于，

含有至少1種下述(a)～(i)的官能團，

(a)異氰脲酸酯基，

(b)脲基甲酸酯基，

(c)縮二脲基，

(d)氨基甲酸酯基，

(e)脲基，

(f)亞氨基噁二嗪二酮基，

(g)脲二酮基，

(h)脲酮亞胺基，

(i)碳二亞胺基。

7.樹脂，其特征在于，其是含有權利要求1～5中任一項所述的苯二甲撐二異氰酸酯組合物的異氰酸酯成分、與選自由多元醇成分、多硫醇成分及多胺成分組成的組中的至少一種的含有活性氫基團的成分的反應產物。

8.如權利要求7所述的樹脂，其特征在于，其是光學材料。

9.如權利要求8所述的樹脂，其特征在于，其是光學透鏡。

10.樹脂，其特征在于，其是含有權利要求6所述的苯二甲撐二異氰酸酯改性物組合物的異氰酸酯成分、與選自由多元醇成分、多硫醇成分及多胺成分組成的組中的至少一種的含有活性氫基團的成分的反應產物。

11.如權利要求10所述的樹脂，其特征在于，其是光學材料。

12.如權利要求11所述的樹脂，其特征在于，其是光學透鏡。

13.二液型樹脂原料，其特征在于，將含有權利要求1～5中任一項所述的苯二甲撐二異氰酸酯組合物的異氰酸酯成分作為A劑，

將含有活性氫基團的成分作為B劑。

14.如權利要求13所述的二液型樹脂原料，其特征在于，其是涂覆原料。

15.二液型樹脂原料，其特征在于，將含有權利要求6所述的苯二甲撐二異氰酸酯改性物組合物的異氰酸酯成分作為A劑，

將含有活性氫基團的成分作為B劑。

16.如權利要求15所述的二液型樹脂原料，其特征在于，其是涂覆原料。