[發明專利]高功率/能量激光測量系統及其雜光抑制方法

有效

• 申請號: 202011305782.1
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN112539832B
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發明（設計）人: 達爭尚;袁索超;董曉娜;李紅光;高立民;段亞軒;陳永權
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01J1/42
• 分類號: G01J1/42;G01J1/04
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 王凱敏

1.高功率/能量激光測量系統，包括依次設置在入射的高功率/能量激光(1)光路上的取樣衰減單元(2)、光學探測通道(3)；所述取樣衰減單元(2)用于實現被測高功率/能量激光(1)的取樣及衰減；所述光學探測通道(3)用于實現所述高功率/能量激光(1)的參數測量；在所述光學探測通道(3)上設置有探測靶面(5)；

其特征在于：

所述探測靶面(5)的至少一個光學共軛位置處設置有雜光吸收體(8)；

還包括焦面小孔(4)和剩余光吸收體(6)；

所述焦面小孔(4)設置在所述光學探測通道(3)的焦面上；

所述剩余光吸收體(6)用于吸收經取樣衰減單元(2)衰減后的剩余光。

2.根據權利要求1所述的高功率/能量激光測量系統，其特征在于：所述探測靶面(5)的所有光學共軛位置處均設置有雜光吸收體(8)。

3.根據權利要求1或2所述的高功率/能量激光測量系統，其特征在于：所述雜光吸收體(8)為吸收玻璃，吸收玻璃的材質根據待吸收的激光波長選用，吸收玻璃的厚度根據系統所需雜光吸收量確定。

4.根據權利要求3所述的高功率/能量激光測量系統，其特征在于：所述雜光吸收體(8)的表面做毛化處理。

5.高功率/能量激光測量系統的雜光抑制方法，所述高功率/能量激光測量系統包括依次設置在入射的高功率/能量激光(1)光路上的取樣衰減單元(2)和光學探測通道(3)；所述取樣衰減單元(2)用于實現被測高功率/能量激光(1)的取樣及衰減；所述光學探測通道(3)用于實現所述高功率/能量激光(1)的參數測量；在所述光學探測通道(3)上設置有探測靶面(5)；

其特征在于，所述雜光抑制方法為：

在所述探測靶面(5)的至少一個光學共軛位置處設置有雜光吸收體(8)；

在所述光學探測通道(3)的焦面上設置焦面小孔(4)和在高功率/能量激光測量系統的取樣衰減單元(2)附近設置用于吸收經取樣衰減單元(2)衰減后的剩余光的剩余光吸收體(6)。

6.根據權利要求5所述的高功率/能量激光測量系統的雜光抑制方法，其特征在于：在所述探測靶面(5)的所有光學共軛位置處均設置有雜光吸收體(8)。

7.根據權利要求6所述的高功率/能量激光測量系統的雜光抑制方法，其特征在于：對所述雜光吸收體(8)的表面做毛化處理。