[發明專利]一種消雜光機構及紅外探測裝置

有效

• 申請號: 202011303699.0
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN112379515B
• 公開（公告）日: 2022-02-22
• 發明（設計）人: 王靈杰;張新;吳洪波;胡銘鈺;譚雙龍
• 申請（專利權）人: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
• 主分類號: G02B27/00
• 分類號: G02B27/00;G01V8/10
• 代理公司: 深圳市科進知識產權代理事務所(普通合伙) 44316
• 代理人: 曹衛良

1.一種消雜光機構，其特征在于，包括：

主鏡，設置在光軸上，所述主鏡的中心處設置有中心孔；

次鏡，設置在光軸上；

視場光闌，設置在所述主鏡與所述次鏡之間，且將從所述主鏡出現小角度雜光路徑到所述中心孔以內的半徑區域的鏡面改變角度，使進入所述半徑區域的外雜光入射后，經過改變角度后的所述主鏡的消雜光表面，反射到所述次鏡之外；

還包括外遮光罩，所述外遮光罩設置在所述主鏡之外，并連接至所述主鏡；

所述消雜光表面由如下方式確定：

設出現小角度雜光范圍最大直徑Dz與所述主鏡交于A點，所述主鏡的中心孔下邊緣為B點，所述外遮光罩下邊緣為點P，所述次鏡下邊緣為點M，連接AP與AM，作角平分線A1A，再過點A作AB1交視場光闌平面于點B1，使AB1垂直于A1A，AB1即為所述主鏡的消雜光表面；

所述消雜光表面與光軸之間形成有夾角θ，所述夾角滿足以下條件：

其中，所述主鏡的直徑為D₀，

視場角為ω，所述次鏡的直徑為D₁，

所述主鏡的中心孔直徑為D_h，

出現小角度雜光范圍直徑為D_z，

所述外遮光罩的長度為L，

所述主鏡和所述次鏡的距離為L₀，

所述主鏡出現雜光范圍半徑處到主鏡邊緣矢高為h₁，

所述主鏡出現雜光范圍半徑處到主鏡中心孔矢高為h₂。

2.根據權利要求1所述的消雜光機構，其特征在于，所述主鏡的消雜光表面為鏡面。

3.根據權利要求1所述的消雜光機構，其特征在于，所述視場光闌的前表面上設置有在紅外譜段吸收率高于97％的消光漆，所述消光漆的厚度為0.04-0.08mm。

4.根據權利要求2所述的消雜光機構，其特征在于，所述主鏡的消雜光表面與所述主鏡設置有相同的反射膜，且所述主鏡的消雜光表面在紅外譜段的反射率高于98％。

5.根據權利要求4所述的消雜光機構，其特征在于，所述主鏡的消雜光表面與所述主鏡相連，形成一體的復合面型。

6.根據權利要求1所述的消雜光機構，其特征在于，所述外遮光罩內設置有消光漆。

7.一種紅外探測裝置，其特征在于，所述紅外探測裝置包括如權利要求1-6任一項所述的消雜光機構。