[發(fā)明專利]隔墊物及其制備方法和顯示裝置及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011303309.X | 申請日： | 2020-11-19 |
| 公開（公告）號： | CN114518672A | 公開（公告）日： | 2022-05-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 武春譜;王凱;徐紅祥;張恒;邸晨晨 | 申請（專利權(quán)）人： | 合肥京東方顯示技術(shù)有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1339 | 分類號： | G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京博思佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11415 | 代理人： | 武娜 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥市新*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 隔墊物 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種隔墊物，其特征在于，包括：
隔墊物主體，包括第一端與第二端，所述第一端與所述第二端相對；所述隔墊物主體的材料為彈性材料；
凹槽，位于所述隔墊物主體的第一端，所述第一端在受到來自所述第二端的壓力時形成吸盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔墊物，其特征在于，所述隔墊物主體的第一端的寬度小于所述隔墊物主體的第二端的寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的隔墊物，其特征在于，所述隔墊物主體的寬度自所述第二端向所述第一端逐漸減小。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔墊物，其特征在于，所述隔墊物主體的高度為3.5微米～3.7微米，所述凹槽的深度為0.5微米～1.0微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔墊物，其特征在于，所述隔墊物主體的第一端的寬度為15微米～20微米，所述凹槽的口徑為4微米～6微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的隔墊物，其特征在于，所述隔墊物主體的材料為負(fù)性光刻膠。
7.一種隔墊物的制備方法，其特征在于，用于制備權(quán)利要求1至6任一項所述的隔墊物，所述方法，包括：
形成彈性材料層；
對所述彈性材料層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成所述隔墊物。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的隔墊物的制備方法，其特征在于，所述彈性材料層的材料為負(fù)性光刻膠；
所述對所述彈性材料層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成所述隔墊物，包括：
將掩膜版放置于所述彈性材料層上，所述掩膜版包括遮光區(qū)、第一透光區(qū)與第二透光區(qū)，所述第一透光區(qū)圍繞所述第二透光區(qū)，所述遮光區(qū)圍繞所述第一透光區(qū)，所述第一透光區(qū)的透光率大于所述第二透光區(qū)的透光率；
對所述彈性材料層進(jìn)行曝光、顯影，得到所述隔墊物。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括：彩膜基板、陣列基板以及權(quán)利要求1至6任一項所述的隔墊物；
所述隔墊物位于所述彩膜基板與所述陣列基板之間，且位于所述彩膜基板的黑矩陣上，所述第二端位于所述彩膜基板上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其特征在于，所述隔墊物包括第一隔墊物與第二隔墊物，所述第一隔墊物的高度大于所述第二隔墊物的高度，所述第一隔墊物的第一端與所述陣列基板接觸，所述第二隔墊物的第一端與所述陣列基板之間存在間隙。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，所述第一隔墊物的高度與所述第二隔墊物的高度的差為0.65微米～0.8微米。
12.一種顯示裝置的制備方法，其特征在于，用于制備權(quán)利要求9所述的顯示裝置，所述方法，包括：
在所述彩膜基板上形成彈性材料層；
對所述彈性材料層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成所述隔墊物；
將所述彩膜基板與所述陣列基板進(jìn)行對盒，得到所述顯示裝置。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述隔墊物包括第一隔墊物與第二隔墊物，所述第一隔墊物的高度大于所述第二隔墊物的高度，所述第一隔墊物的第一端與所述陣列基板接觸，所述第二隔墊物的第一端與所述陣列基板之間存在間隙；所述彈性材料層的材料為負(fù)性光刻膠；
所述對所述彈性材料層進(jìn)行構(gòu)圖工藝，形成所述隔墊物，包括：
將掩膜版放置于所述彈性材料層上，所述掩膜版包括遮光區(qū)、第一透光區(qū)、第二透光區(qū)、第三透光區(qū)以及第四透光區(qū)，所述第一透光區(qū)圍繞所述第二透光區(qū)，所述第一透光區(qū)的透光率大于所述第二透光區(qū)的透光率，所述第三透光區(qū)圍繞所述第四透光區(qū)，所述第三透光區(qū)的透光率大于所述第四透光區(qū)的透光率，所述第一透光區(qū)的透光率大于所述第三透光區(qū)的透光率，所述遮光區(qū)圍繞所述第一透光區(qū)與所述第三透光區(qū)；
對所述彈性材料層進(jìn)行曝光、顯影，得到所述隔墊物。
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G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
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