[發明專利]苯二甲撐二異氰酸酯組合物、苯二甲撐二異氰酸酯改性物組合物、二液型樹脂原料及樹脂

在審

• 申請號: 202011302565.7
• 申請日: 2018-04-09
• 公開（公告）號: CN112409566A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 山崎聰;長谷川大輔;森田廣一;大冢英晶;中嶋辰也;島川千年;隈茂教;佐佐木祐明
• 申請（專利權）人: 三井化學株式會社
• 主分類號: C08G18/71
• 分類號: C08G18/71;C08G18/76;C08G18/38;C08L75/04;G02B1/04
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 李國卿

1.光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，包含苯二甲撐二異氰酸酯、和下述化學式(1)所示的化合物，下述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且60ppm以下，

化學式(1)

[化學式1]

2.如權利要求1所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且50ppm以下。

3.如權利要求1所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且30ppm以下。

4.如權利要求1所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且20ppm以下。

5.如權利要求1所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且18ppm以下。

6.如權利要求1所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且4.5ppm以下。

7.如權利要求1所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述化學式(1)所示的化合物的含有比例為0.6ppm以上且1.2ppm以下。

8.如權利要求1～7中任一項所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，還包含氯甲基芐基異氰酸酯，所述氯甲基芐基異氰酸酯的含有比例為0.2ppm以上且3000ppm以下。

9.如權利要求8所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述氯甲基芐基異氰酸酯的含有比例為0.2ppm以上且1600ppm以下。

10.如權利要求8或9所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，所述氯甲基芐基異氰酸酯的含有比例相對于所述化學式(1)所示的化合物的含有比例為20倍以上且800倍以下。

11.如權利要求1～10中任一項所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，下述化學式(3)所示的氰基芐基異氰酸酯的含有比例小于300ppm，

化學式(3)

[化學式3]

12.如權利要求1～11中任一項所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物，其特征在于，苯二甲撐二異氰酸酯的含有比例為99質量％以上。

13.光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯改性物組合物，其是權利要求1～12中任一項所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物被改性而得到的改性物組合物，其特征在于，

含有至少1種下述(a)～(i)的官能團，

(a)異氰脲酸酯基，

(b)脲基甲酸酯基，

(c)縮二脲基，

(d)氨基甲酸酯基，

(e)脲基，

(f)亞氨基噁二嗪二酮基，

(g)脲二酮基，

(h)脲酮亞胺基，

(i)碳二亞胺基。

14.光學材料原料，其特征在于，包含：

含有權利要求1～12中任一項所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯組合物及/或權利要求13所述的光學材料用苯二甲撐二異氰酸酯改性物組合物的異氰酸酯成分；和

含有活性氫基團的成分。