[發明專利]芯片散熱結構有效
| 申請號: | 202011302000.9 | 申請日: | 2020-11-19 |
| 公開(公告)號: | CN112420636B | 公開(公告)日: | 2022-09-06 |
| 發明(設計)人: | 張仁亮;戴升龍;張紅兵 | 申請(專利權)人: | 四川長虹空調有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/367 | 分類號: | H01L23/367;H01L23/373 |
| 代理公司: | 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 成杰 |
| 地址: | 621000 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 芯片 散熱 結構 | ||
本發明涉及芯片散熱技術領域,尤其是一種芯片散熱結構。本發明包括基體和芯片,基體包括上基體和下基體,上基體和下基體通過第一螺釘相連接,在上基體和下基體之間設置有絕緣導熱墊片,下基體上設有散熱翅片,芯片通過第二螺釘固定在上基體的上表面上,芯片和上基體上表面之間填充有導熱層,第一螺釘和第二螺釘分別配設有絕緣套;芯片與導熱層的接觸面積設定為A1,上基體與絕緣導熱墊片的接觸面積設定為A2,導熱層的導熱系數設定為K1,絕緣導熱墊片的導熱系數設定為K2,A2:A1的值大于1,小于2K1/K2。本發明有利于合理提高散熱器的綜合散熱效果。
技術領域
本發明涉及芯片散熱技術領域,尤其是一種芯片散熱結構。
背景技術
通常現有芯片散熱技術中,都基本通過一個大散熱器對多個芯片散熱。當芯片中包含igbt芯片時,因igbt芯片特殊結構和功能需進行絕緣散熱,而其他芯片基本不需進行絕緣散熱。對IGBT芯片而言通常需要采用絕緣墊片與散熱器連接,但絕緣墊片會增大IGBT芯片與金屬散熱器之間的導熱熱阻。往往igbt芯片散熱是整個芯片系統散熱的瓶頸難題。為解決這一難題,有的技術方案通過提升絕緣導熱層的導熱率來解決,如專利文獻CN207811642U。
與此同時,在實際產品應用中經常碰到有限的散熱器空間尺寸限制、有限的成本控制、多個芯片相對位置有限的調整范圍等各種條件,在滿足這些條件下,如何增強igbt芯片散熱能力的同時平衡與其他芯片的散熱效果,最終達到整體芯片系統的散熱平衡,目前未有技術手段涉及到。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是:提供一種散熱效果更好的芯片散熱結構。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:芯片散熱結構,包括基體和芯片,基體包括固定連接的上基體和下基體,下基體上設有散熱翅片,芯片固定在上基體的上表面上,上基體下表面和下基體上表面之間填充有絕緣導熱墊片,芯片與上基體上表面之間填充有導熱層。上基體和下基體通過第一螺釘相連接,上基體設置有與第一螺釘相適配的螺釘過孔,下基體設置有與第一螺釘相適配的螺紋孔,上基體的螺釘過孔與第一螺釘的配合面之間套設有絕緣套;芯片和上基體通過第二螺釘相連接,芯片設置有與第二螺釘相適配的螺釘過孔,上基體設置有與第二螺釘相適配的螺紋孔,芯片的螺釘過孔與螺釘的配合面之間套設有絕緣套;芯片與導熱層的接觸面積設定為A1,上基體與絕緣導熱墊片的接觸面積設定為A2,導熱層的導熱系數設定為K1,絕緣導熱墊片的導熱系數設定為K2,A2:A1的值大于1,小于2K1/K2。
進一步的是:上基體和下基體的配合面為V字形或弧形。
進一步的是:下基體包括厚度為H1的基板,基板頂面中部位置設有V字形或弧形的凹槽,凹槽最低處所在位置的基板厚度設定為H2,H2:H1的值大于0.15。
進一步的是:基板頂面在凹槽的一側固定設置有第二芯片,在凹槽的另一側固定設置有第三芯片,基板頂面與第二芯片之間填充有第二導熱層,基板頂面與第三芯片之間填充有第三導熱層;
以垂直于凹槽長度方向的豎向平面作為參考面,凹槽輪廓線與基板頂面輪廓線的連接點分別設定為M點和N點,凹槽最低處所在的點設定為P點,其中M點為靠近第二芯片所在一側的點,M點和P點的間距值小于N點和P點的間距值,將M點和P點之間的區域對應的絕緣導熱墊片設定為絕緣導熱墊片A,將N點和P點之間的區域對應的絕緣導熱墊片設定為絕緣導熱墊片B,
當指定第二芯片的散熱功率在指定區域內散熱時,則通過上基體遠離第二芯片邊緣距離,靠近第三芯片邊緣距離來實現;
當指定第二芯片的散熱功率在指定區域內的指定齒片為臨界時,則可通過下基體的凹槽最低處所在的P點位置靠近指定齒片來實現,同時增大絕緣導熱墊片A的厚度實現下基體的熱量傳遞隔離。
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