[發明專利]雙重非均勻性空間自屏效應修正方法、裝置、設備及介質有效
| 申請號： | 202011301026.1 | 申請日： | 2020-11-19 |
| 公開（公告）號： | CN112364555B | 公開（公告）日： | 2022-03-25 |
| 發明（設計）人： | 婁磊;秦冬;姚棟;王連杰;于穎銳;柴曉明;彭星杰;李慶;陳長;劉同先;李滿倉;秦雪;唐霄;李司南 | 申請（專利權）人： | 中國核動力研究設計院 |
| 主分類號： | G06F30/25 | 分類號： | G06F30/25;G06F111/08 |
| 代理公司： | 成都行之專利代理事務所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 張超 |
| 地址： | 610000 四川省*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雙重 均勻 空間 效應 修正 方法 裝置 設備 介質 | ||
1.一種雙重非均勻性空間自屏效應修正方法，其特征在于，包括：
通過蒙特卡羅方法，對從燃料表面逃脫的所有中子數和從燃料表面逃脫后在慢化劑中不經過任何碰撞，而進入到相鄰燃料柵元發生碰撞的中子數進行計算，得到丹可夫因子；
獲取中子逃脫概率，基于所述丹可夫因子對所述中子逃脫概率進行修正，以修正中子共振計算的雙重非均勻性；
根據均勻前后中子在隨機分布介質區的逃脫概率不變，將所述隨機分布介質區等效為均勻化介質；
基于彌散顆粒和基體各子區的宏觀截面，以及各子區對應的體積份額和空間自屏因子計算所述均勻化介質的等效截面，以修正中子輸運計算的雙重非均勻性；
其中，所述基于彌散顆粒和基體各子區的宏觀截面，以及各子區對應的體積份額和空間自屏因子計算所述均勻化介質的等效截面，包括：
通過等效截面計算公式計算所述均勻化介質的等效截面；所述等效截面計算公式具體為其中，指均勻化介質的等效截面，fj指第j子區占整個隨機分布介質區的體積份額，Sj指第j子區的空間自屏因子，Σj指第j子區的總截面，指考慮空間自屏因子后的第j子區的總截面；
所述等效截面計算公式具體包括第一計算公式、第二計算公式和第三計算公式；
其中，第一計算公式具體為：其中，p指中子在隨機分布介質區的逃脫概率，L指沿中子任意飛行方向平均每穿過一個半徑為R的包覆顆粒所經歷的距離；
第二計算公式具體為：其中，pj指中子在隨機分布介質區各子區的首次碰撞概率，p指中子在隨機分布介質區的逃脫概率，fj指第j子區占整個隨機分布介質區的體積份額；其中，
第三計算公式具體為：其中，Sj指第j子區的空間自屏因子，Σj指第j子區的總截面，指考慮空間自屏因子后的第j子區的總截面。
2.根據權利要求1所述的雙重非均勻性空間自屏效應修正方法，其特征在于，所述對從燃料表面逃脫的所有中子數和從燃料表面逃脫后在慢化劑中不經過任何碰撞，而進入到相鄰燃料柵元發生碰撞的中子數進行計算，得到丹可夫因子，包括：
將從燃料表面逃脫的所有中子數作為第一個數據；
將從燃料表面逃脫后在慢化劑中不經過任何碰撞，而進入到相鄰燃料柵元發生碰撞的中子數作為第二個數據；
將所述第二個數據與所述第一個數據的比值作為丹可夫因子。
3.根據權利要求1所述的雙重非均勻性空間自屏效應修正方法，其特征在于，所述第一計算公式中L可通過第四公式計算得到；其中，第四公式具體為：從而得到其中，R指包覆顆粒的半徑，F指包覆顆粒的填充率。
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