[發(fā)明專利]均溫板上蓋板的制備方法以及均溫板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011299872.4
• 申請(qǐng)日: 2020-11-19
• 公開（公告）號(hào): CN112522747B
• 公開（公告）日: 2022-01-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳曉杰;石一卉;方文兵
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 瑞聲科技（南京）有限公司
• 主分類號(hào): C25D3/56
• 分類號(hào): C25D3/56;C25D5/50;C25D5/48;C25D5/34;F28D15/04
• 代理公司: 深圳中細(xì)軟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44528
• 代理人: 田麗麗

本發(fā)明提供了一種均溫板上蓋板的制備方法、均溫板上蓋板以及均溫板，均溫板上蓋板的制備方法包括以下過(guò)程：制作均溫板的上蓋板；對(duì)上蓋板進(jìn)行電化學(xué)沉積，在上蓋板的內(nèi)壁沉積形成具有多孔結(jié)構(gòu)的毛細(xì)結(jié)構(gòu)層，其中，上蓋板作為電化學(xué)沉積的陰極，毛細(xì)結(jié)構(gòu)層的材質(zhì)為鋅鎳合金,電化學(xué)沉積的電解液包括60g/L?120g/L的硫酸鎳、60g/L?120g/L的硫酸鋅、40g/L?100g/L的氯化銨和0.7g/L?3.7g/L的第二添加劑，所述電解液的pH值為2?5；對(duì)毛細(xì)結(jié)構(gòu)層進(jìn)行熱處理，得到具有毛細(xì)結(jié)構(gòu)層的均溫板上蓋板。本發(fā)明操作便利，工藝簡(jiǎn)單，成本低，且構(gòu)建的毛細(xì)結(jié)構(gòu)厚度易控，性能良好，與蓋板結(jié)合緊密，可用于制作超薄均溫板，解決了傳統(tǒng)方法的大部分工藝缺陷。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本發(fā)明涉及散熱技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種均溫板上蓋板的制備方法以及均溫板。

【背景技術(shù)】

目前業(yè)內(nèi)的均溫板上蓋板毛細(xì)結(jié)構(gòu)的制造方法主要有銅粉燒結(jié)和銅網(wǎng)粘結(jié)兩種，燒結(jié)工藝復(fù)雜、效率低且價(jià)格高昂，而采用在均溫板內(nèi)側(cè)粘結(jié)銅網(wǎng)方法得到的毛細(xì)結(jié)構(gòu)與蓋板結(jié)合力較差，使其毛細(xì)性能無(wú)法保持穩(wěn)定，成品率不高，難以大規(guī)模生產(chǎn)。因此亟需開發(fā)一種工藝簡(jiǎn)單、成本低廉且與蓋板結(jié)合緊密、性能穩(wěn)定高效的毛細(xì)結(jié)構(gòu)制作方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

本發(fā)明的目的之一在于提供一種均溫板上蓋板的制備方法，通過(guò)電化學(xué)沉積的方法在均溫板內(nèi)側(cè)構(gòu)建毛細(xì)結(jié)構(gòu)，該方法操作便利，工藝簡(jiǎn)單，成本低，且構(gòu)建的毛細(xì)結(jié)構(gòu)厚度易控，性能良好，與蓋板結(jié)合緊密，可用于制作超薄均溫板，解決了傳統(tǒng)方法的大部分工藝缺陷。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種均溫板上蓋板的制備方法，包括以下過(guò)程：

制作均溫板的上蓋板；

對(duì)所述上蓋板進(jìn)行電化學(xué)沉積，在所述上蓋板的內(nèi)壁沉積形成具有多孔結(jié)構(gòu)的毛細(xì)結(jié)構(gòu)層，其中，所述上蓋板作為所述電化學(xué)沉積的陰極，所述毛細(xì)結(jié)構(gòu)層的材質(zhì)為鋅鎳合金,所述電化學(xué)沉積的電解液包括60g/L-120g/L的硫酸鎳、60g/L-120g/L的硫酸鋅、40g/L-100g/L的氯化銨和0.7g/L-3.7g/L的第二添加劑，所述第二添加劑包括0.5g/L-1.5g/L的糖精鈉、0.2g/L-1g/L的鄰磺基苯甲醛和0.01g/L-1.2g/L的煙酸中的至少一種；

對(duì)所述毛細(xì)結(jié)構(gòu)層進(jìn)行熱處理，得到具有毛細(xì)結(jié)構(gòu)層的均溫板上蓋板。

優(yōu)選的，所述電解液的pH值為2-5。

優(yōu)選的，所述電解液還包括酸性緩沖試劑，所述酸性緩沖試劑為0.01g/L-40g/L的硼酸。

優(yōu)選的，所述電解液還包括絡(luò)合劑，所述絡(luò)合劑包括0.01g/L-50g/L的乙酸和/或0.01g/L-50g/L的檸檬酸鈉。

優(yōu)選的，所述電解液的溫度為30℃-60℃；所述電化學(xué)沉積的電流密度為4A/dm2-10 A/dm2；所述電化學(xué)沉積的時(shí)間為12min-120min。

優(yōu)選的，所述熱處理之前，還包括對(duì)所述毛細(xì)結(jié)構(gòu)層進(jìn)行刻蝕以提高所述毛細(xì)結(jié)構(gòu)層的孔隙率的過(guò)程。

優(yōu)選的，所述刻蝕為堿蝕，所述堿蝕的過(guò)程為：將所述毛細(xì)結(jié)構(gòu)層置于氫氧根濃度為0.6mol/L-6mol/L的堿溶液中浸泡10min-100min。

優(yōu)選的，所述熱處理的過(guò)程為：將所述上蓋板置于真空或無(wú)氧保護(hù)氣氛中進(jìn)行所述熱處理，所述熱處理的溫度為300℃-800℃，所述熱處理的時(shí)間為30min-60min。

優(yōu)選的，所述上蓋板電化學(xué)沉積所述毛細(xì)結(jié)構(gòu)層之前，還包括對(duì)所述上蓋板進(jìn)行除油和/或除銹的過(guò)程。

優(yōu)選的，所述除油的過(guò)程為：將所述上蓋板置于除油液中，作為陰極，電解，完成后沖洗所述上蓋板，得到除油后的上蓋板；