[發明專利]掩膜圖像生成方法、裝置、電子設備和計算機可讀介質

在審

• 申請號: 202011299864.X
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN112418249A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 李華夏
• 申請（專利權）人: 北京字跳網絡技術有限公司
• 主分類號: G06K9/46
• 分類號: G06K9/46;G06K9/62;G06N3/04;G06T3/40;G06T5/00;G06T7/11;G06T7/13
• 代理公司: 北京衛智暢科專利代理事務所(普通合伙) 11557
• 代理人: 陳佳

1.一種掩膜圖像生成方法，包括：

提取破損圖像中的邊緣信息，得到所述破損圖像的邊緣圖像；

基于所述破損圖像和所述邊緣圖像，對所述破損圖像進行特征提取，得到所述破損圖像的特征圖像；

將所述邊緣圖像進行變換，得到與所述特征圖像尺寸匹配的縮小邊緣圖像；

基于所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像，生成所述破損圖像中破損區域的掩膜圖像。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述基于所述破損圖像和所述邊緣圖像，對所述破損圖像進行特征提取，得到所述破損圖像的特征圖像，包括：

將所述破損圖像和所述邊緣圖像輸入到預訓練的掩膜生成模型中的特征提取網絡，得到所述破損圖像的特征圖像，其中，所述掩膜生成模型包括所述特征提取網絡和圖像生成網絡。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述基于所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像，生成所述破損圖像中破損區域的掩膜圖像，包括：

將所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像輸入至所述預訓練的掩膜生成模型中的所述圖像生成網絡，得到所述破損圖像中破損區域的掩膜圖像。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，所述圖像生成網絡包括卷積層和至少一個上采樣層；以及

所述將所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像輸入至所述預訓練的掩膜生成模型中的所述圖像生成網絡，得到所述破損圖像中破損區域的掩膜圖像，包括：

將所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像輸入所述卷積層，得到第一類型特征圖像；

將所述第一類型特征圖像輸入所述至少一個上采樣層，得到所述掩膜圖像。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述將所述第一類型特征圖像輸入所述至少一個上采樣層，包括：

對于所述至少一個上采樣層中的每個上采樣層，將所述上采樣之前的網絡輸出的第一類型特征圖像與所述上采樣層對應的邊緣圖像輸入所述上采樣層，得到第二類型特征圖像，其中，所述上采樣層對應的邊緣圖像通過將所述邊緣圖像變換至所述上采樣層的輸入尺寸得到。

6.一種掩膜圖像生成裝置，包括：

邊緣提取單元，被配置成提取破損圖像中的邊緣信息，得到所述破損圖像的邊緣圖像；

特征提取單元，被配置成基于所述破損圖像和所述邊緣圖像，對所述破損圖像進行特征提取，得到所述破損圖像的特征圖像；

變換單元，被配置成將所述邊緣圖像進行變換，得到與所述特征圖像尺寸匹配的縮小邊緣圖像；

生成單元，被配置成基于所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像，生成所述破損圖像中破損區域的掩膜圖像。

7.根據權利要求6所述的裝置，其中，所述特征提取單元進一步被配置成：

將所述破損圖像和所述邊緣圖像輸入到預訓練的掩膜生成模型中的特征提取網絡，得到所述破損圖像的特征圖像，其中，所述掩膜生成模型包括特征提取網絡和圖像生成網絡。

8.根據權利要求7所述的裝置，其中，所述生成單元進一步被配置成：

將所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像輸入至所述預訓練的掩膜生成模型中的所述圖像生成網絡，得到所述破損圖像中破損區域的掩膜圖像。

9.根據權利要求8所述的裝置，其中，所述圖像生成網絡包括卷積層和上采樣層；以及

所述生成單元進一步被配置成：

將所述特征圖像與所述縮小邊緣圖像輸入所述卷積層，得到第一類型特征圖像；

將所述第一類型特征圖像輸入所述至少一個上采樣層，得到所述掩膜圖像。

10.根據權利要求9所述的裝置，其中，所述生成單元進一步被配置成：

對于所述至少一個上采樣層中的每個上采樣層，將所述上采樣之前的網絡輸出的第一類型特征圖像與所述上采樣層對應的邊緣圖像輸入所述上采樣層，得到第二類型特征圖像，其中，所述上采樣層對應的邊緣圖像通過將所述邊緣圖像變換至所述上采樣層的輸入尺寸得到。