[發明專利]一種裸眼3D器件的制備方法、裸眼3D器件

在審

• 申請號: 202011299775.5
• 申請日: 2020-11-19
• 公開（公告）號: CN114518660A
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發明（設計）人: 郭康;顧仁權;谷新;張鋒;王美麗;袁廣才;董學;宋夢亞;李多輝;姚琪;于靜
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02B30/27
• 分類號: G02B30/27;G02F1/1333;G02F1/1335;G09F9/33;H01L27/32
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

1.一種裸眼3D器件的制備方法，包括：

形成顯示模組，其中所述顯示模組包括多個像素島；

在顯示模組上形成隔墊層；

在所述隔墊層上形成微透鏡陣列，其中所述隔墊層的厚度被形成為使得所述多個像素島位于所述微透鏡陣列的焦平面上；

其特征在于，所述方法還包括：

在所述隔墊層和所述顯示模組之間形成對位標記，其中所述對位標記用于在形成微透鏡陣列時，微透鏡陣列中的每個微透鏡分別與一個像素島對準。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

在顯示模組上形成隔墊層包括：

形成多層隔墊層；

所述方法還包括：

在所述多層隔墊層的每兩層隔墊層之間形成對位標記，其中所述隔墊層的層數與待形成的微透鏡陣列的焦距相關。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，

不同層上形成的對位標記在所述顯示模組上的正投影不重合。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述隔墊層上形成微透鏡陣列包括：

形成密接形狀的微透鏡；或者

形成非密接形狀的微透鏡以及所述微透鏡之間的黑矩陣。

5.根據權利要求1-4中任一項所述的方法，其特征在于，所述形成顯示模組包括：

形成LCD模組，其中包括下偏光片、陣列基板、彩膜基板以及封裝在陣列基板和彩膜基板之間的液晶層。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，在所述隔墊層和所述顯示模組之間形成對位標記包括：

在所述彩膜基板上形成金屬層；

對所述金屬層圖案化形成所述對位標記。

7.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，還包括：

形成平坦化層，覆蓋所述微透鏡陣列，所述平坦化層的折射率小于所述微透鏡的折射率；

在所述平坦化層上形成上偏光片。

8.根據權利要求1-4中任一項所述的方法，其特征在于，所述形成顯示模組包括：

形成OLED模組或micro-led顯示模組，其中所述OLED模組或micro-led顯示模組包括TFT電路層、發光層和封裝層。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在所述隔墊層和所述顯示模組之間形成對位標記包括：

在所述封裝層上形成金屬層；

對所述金屬層圖案化形成所述對位標記。

10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，還包括：

形成平坦化層，覆蓋所述微透鏡陣列，所述平坦化層的折射率小于所述微透鏡的折射率。

11.一種裸眼3D器件，包括：

顯示模組，其中所述顯示模組包括多個像素島；

在顯示模組上形成的隔墊層；

在所述隔墊層上形成的微透鏡陣列，其中所述隔墊層的厚度被形成為使得所述多個像素島位于所述微透鏡陣列的焦平面上；

其特征在于，所述器件還包括：

在所述隔墊層和所述顯示模組之間形成的對位標記，其中所述對位標記用于在形成微透鏡陣列時，微透鏡陣列中的每個微透鏡分別與一個像素島對準。

12.根據權利要求11所述的器件，其特征在于，

所述隔墊層包括多層，

所述器件還包括在所述多層隔墊層的每兩層隔墊層之間形成的對位標記，其中所述隔墊層的層數與待形成的微透鏡陣列的焦距相關。