[發(fā)明專利]一種用于磁環(huán)的加工設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011299007.X | 申請(qǐng)日: | 2020-11-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112476147A | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 倪學(xué)洪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 湖州科峰磁業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B19/00 | 分類號(hào): | B24B19/00;B24B27/00;B24B41/06;B24B47/20;B24B47/26 |
| 代理公司: | 北京方圓嘉禾知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11385 | 代理人: | 陳明輝 |
| 地址: | 313000 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 加工 設(shè)備 | ||
本發(fā)明公開了一種用于磁環(huán)的加工設(shè)備,包括架體,架體上設(shè)置有頂板,頂板上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)單元和下壓單元,下壓單元位于驅(qū)動(dòng)單元的下方,驅(qū)動(dòng)單元用于控制下壓單元上下移動(dòng);下壓單元上設(shè)置有若干個(gè)打磨盤,各打磨盤分別設(shè)置在各電機(jī)上,各電機(jī)分別設(shè)置在下壓單元上,架體上設(shè)置有定位單元,定位單元位于下壓單元下方且與下壓單元配合使用,待打磨磁環(huán)通過定位單元進(jìn)行定位。本發(fā)明的結(jié)構(gòu)能夠使其在打磨時(shí)穩(wěn)定性更佳,打磨質(zhì)量更好,同時(shí)能夠?qū)Χ鄠€(gè)待打磨件進(jìn)行打磨,具有降低操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度、提高效率、結(jié)構(gòu)簡單和不易損壞等有益效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種加工設(shè)備,具體地說,特別涉及一種用于磁環(huán)的加工的設(shè)備。
背景技術(shù)
在對(duì)磁環(huán)進(jìn)行加工時(shí),需要通過磨盤對(duì)磁環(huán)進(jìn)行打磨,現(xiàn)有打磨方式均通過人工手持打磨設(shè)備對(duì)其進(jìn)行打磨,這種打磨方式,一方面,打磨后的光澤度不佳;另一方面,打磨效率低;再一方面,操作人員的勞動(dòng)強(qiáng)度較高,同時(shí)在打磨較多工件后,由于操作人員的體力下降導(dǎo)致操作變形,不僅影響了效率,同時(shí)打磨質(zhì)量也得不到保證。
因此本領(lǐng)域技術(shù)人員致力于提高一種能夠有效提高打磨質(zhì)量和打磨效率的磁環(huán)加工設(shè)備。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能夠有效提高打磨質(zhì)量和打磨效率的磁環(huán)加工設(shè)備。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種用于磁環(huán)的加工設(shè)備,包括架體,所述架體上設(shè)置有頂板,所述頂板上設(shè)置有驅(qū)動(dòng)單元和下壓單元,所述下壓單元位于所述驅(qū)動(dòng)單元的下方,所述驅(qū)動(dòng)單元用于控制所述下壓單元上下移動(dòng);
所述下壓單元上設(shè)置有若干個(gè)打磨盤,各所述打磨盤分別設(shè)置在各電機(jī)上,各所述電機(jī)分別設(shè)置在所述下壓單元上,所述架體上設(shè)置有定位單元,所述定位單元位于所述下壓單元下方且與所述下壓單元配合使用,待打磨磁環(huán)通過所述定位單元進(jìn)行定位。
作為優(yōu)選,所述架體包括第一架板和第二架板,所述第一架板的高度低于所述第二架板的高度,所述第一架板的后端與所述第二架板的前端通過第三架板連接,所述第一架板與所述第二架板的兩端分別通過兩個(gè)第四架板連接,各所述第四架板成梯形;所述頂板設(shè)置在所述第二架板的上半段。
作為優(yōu)選,所述驅(qū)動(dòng)單元包括氣缸,所述氣缸通過氣缸定位架與所述頂板連接;所述氣缸的活塞桿與下壓板連接,所述下壓板的下端設(shè)置有若干個(gè)活動(dòng)桿,各所述活動(dòng)桿向下延伸并可活動(dòng)的穿過所述頂板。
作為優(yōu)選,所述氣缸定位架包括第一定位環(huán),所述第二定位環(huán)套設(shè)在所述氣缸上,所述第一定位環(huán)的外壁相互對(duì)稱的設(shè)置有兩個(gè)第一定位板,各所述第一定位板的另一端分別通過各第二定位板與頂板連接。
作為優(yōu)選,所述下壓板上開設(shè)有兩個(gè)穿孔,所述頂板上設(shè)置有兩個(gè)第一定位桿,各所述第一定位桿的上端均設(shè)置有第二定位桿,各所述第二定位桿同時(shí)與導(dǎo)向定位環(huán)的外壁連接,所述活塞桿可活動(dòng)的穿過所述導(dǎo)向定位環(huán)與所述下壓板連接。
作為優(yōu)選,所述下壓單元包括下壓座,所述下壓座位于所述頂板下方,各所述電機(jī)通過電機(jī)安裝座設(shè)置在所述下壓座上端,所述電機(jī)的輸出軸向下延伸并穿過所述下壓座設(shè)置有所述打磨盤,各所述活動(dòng)桿的下端均設(shè)置有連接塊,各所述連接塊分別與所述下壓座的兩側(cè)連接;
所述頂板的下端設(shè)置有兩個(gè)第一導(dǎo)向桿,所述下壓座位于兩個(gè)第一導(dǎo)向桿之間,所述下壓座的兩側(cè)均設(shè)置有導(dǎo)向座,各所述第一導(dǎo)向桿分別可活動(dòng)的穿過各所述導(dǎo)向座。
作為優(yōu)選,所述下壓座的下端設(shè)置有導(dǎo)向塊,各所述電機(jī)的輸出軸可活動(dòng)的穿過各所述導(dǎo)向塊并與打磨盤連接,所述導(dǎo)向塊的兩側(cè)分別通過定位塊與所述下壓座連接。
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