[發明專利]真空壓著機

在審

• 申請號: 202011293164.X
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN114521063A
• 公開（公告）日: 2022-05-20
• 發明（設計）人: 謝正壽;邱垂銘;林義峰
• 申請（專利權）人: 鈦昇科技股份有限公司
• 主分類號: H05K3/28
• 分類號: H05K3/28
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

1.一種真空壓著機，其特征在于，用以壓著至少一工件，并設有：

一本體；

一壓著模塊，該壓著模塊設于該本體上，并設有一下壓著組件及一上壓著組件，該下壓著組件能相對該本體移動地設于該本體上，且該下壓著組件設有一下電熱片，該下電熱片設于該下壓著組件中，該上壓著組件設于該下壓著組件上方，且與該下壓著組件相分離設置，并能靠近或遠離該下壓著組件，該上壓著組件設有一上電熱片及一氣囊，該上電熱片設于該上壓著組件中，該氣囊設于該上壓著組件面向該下壓著組件的一面，并能被充氣而膨脹；以及

兩限動爪，該兩限動爪分別設于該壓著模塊的兩側，且各限動爪能靠近或遠離該壓著模塊；

其中，該至少一工件被壓著時，該下壓著組件的底面抵靠于該兩限動爪，該上壓著組件抵靠于該下壓著組件，該至少一工件位于該下壓著組件及該上壓著組件之間，該氣囊膨脹而緊密貼靠于該至少一工件。

2.如權利要求1所述的真空壓著機，其特征在于，該真空壓著機設有一集電組件，該集電組件設有一集電軌及至少一集電臂，該集電軌設于該本體上，該至少一集電臂與該集電軌電性連接，并能相對該集電軌移動地設于該集電軌，且與該下電熱片電性連接。

3.如權利要求1或2所述的真空壓著機，其特征在于，該上壓著組件設有一氣囊定位裝置，該氣囊定位裝置能被抽出該上壓著組件，并設有一取附底板及一壓板，該取附底板位于該壓板上方，并與該壓板相結合，該壓板為一框體；該氣囊設于該取附底板及該壓板之間，而受該取附底板及該壓板定位，在該氣囊膨脹時，該氣囊凸出該壓板。

4.如權利要求1或2所述的真空壓著機，其特征在于，該下壓著組件于面向該上壓著組件的一面設有一氣密件，該氣密件環形設置，在該上壓著組件抵靠于該下壓著組件時，該氣密件受壓而變形。

5.如權利要求3所述的真空壓著機，其特征在于，該下壓著組件于面向該上壓著組件的一面設有一氣密件，該氣密件環形設置，在該上壓著組件抵靠于該下壓著組件時，該氣密件受壓而變形。

6.如權利要求1或2所述的真空壓著機，其特征在于，該真空壓著機設有至少一線性位移裝置，該至少一線性位移裝置連接該本體及該下壓著組件。

7.如權利要求6所述的真空壓著機，其特征在于，該至少一線性位移裝置為一磁偶式無桿缸。

8.如權利要求6所述的真空壓著機，其特征在于，該至少一線性位移裝置包括一軌道及至少一滑動件，該軌道設于該本體上，該至少一滑動件連接于該下壓著組件，并能相對該軌道移動。

9.如權利要求1或2所述的真空壓著機，其特征在于，該下壓著組件設有一下壓合座，該下壓合座設有兩墊片，該兩墊片設于該下壓著組件的底面；各限動爪設有一限位槽及至少一耐磨板，該限位槽凹設形成于該限動爪面向該壓著模塊的一側，該至少一耐磨板設于該限位槽的底面，該耐磨板的頂面與該下壓合座的其中一墊片的底面相對應設置，該至少一工件被壓著時，該下壓合座的該兩墊片分別緊密抵靠于對應限動爪的耐磨板。