[發明專利]MOCVD沉積物的清理裝置

有效

• 申請號: 202011293027.6
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN112410755B
• 公開（公告）日: 2022-11-22
• 發明（設計）人: 劉鋒;韓曉翠;鄭遠志;陳向東
• 申請（專利權）人: 馬鞍山杰生半導體有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 北京華智則銘知識產權代理有限公司 11573
• 代理人: 沈抗勇

1.MOCVD沉積物的清理裝置，包括底座(1)、反應腔(2)和腔蓋(3)，其特征在于，所述反應腔(2)固定設置于所述底座(1)的上表面，所述腔蓋(3)設置于所述反應腔(2)的頂部，所述底座(1)的上表面中心處固定設有U型支撐板(4)，所述U型支撐板(4)的內部設有旋轉板(5)，所述旋轉板(5)的側壁通過轉軸轉動設置于所述U型支撐板(4)的內部，所述旋轉板(5)的上側固定設有反應臺(6)，所述底座(1)的上表面左側固定設有第一U型塊，所述第一U型塊的內部通過第一軸銷轉動設置有氣缸(8)，所述氣缸(8)的活塞桿末端通過第二軸銷轉動設置有第二U型塊，所述第二U型塊固定設置于所述反應臺(6)的下表面左側，所述反應臺(6)的上表面設有U型刮板(7)，所述反應臺(6)的側壁設置有用于帶動所述U型刮板(7)移動的驅動機構，所述反應腔(2)的內部上側設有用于對所述腔蓋(3)的下表面清理的刮壁機構，所述底座(1)的上表面右側開設有沉積物收集槽，所述底座(1)的右側壁固定設有吸塵機(9)，所述吸塵機(9)的輸入端固定設有吸塵管(10)，所述吸塵管(10)遠離所述吸塵機(9)的一端貫穿至所述沉積物收集槽的內部，所述驅動機構包括滑軌(11)、滑塊(12)、第一絲桿(13)、殼體(14)、第一電機(15)、第一皮帶輪(16)和第二皮帶輪(17)，所述滑軌(11)分別固定設置于所述反應臺(6)的前后兩側上，所述滑塊(12)位于所述滑軌(11)的內部，所述第一絲桿(13)呈橫向位于所述滑軌(11)的內部，所述第一絲桿(13)的兩端均通過第一滾動軸承分別與所述滑軌(11)的左右兩側轉動連接，所述滑塊(12)滑動設置于所述滑軌(11)的內部，所述滑塊(12)的側壁通過第一螺紋孔與所述第一絲桿(13)的桿壁螺紋設置，所述U型刮板(7)的兩端分別固定設置于兩個所述滑塊(12)的表面，所述U型刮板(7)與所述反應臺(6)的表面接觸設置，所述殼體(14)固定設置于所述反應臺(6)的左側壁上，兩個所述第一絲桿(13)的左端均貫穿至所述殼體(14)的內部，所述第一電機(15)固定設置于所述殼體(14)的內側壁上，所述第一皮帶輪(16)呈對稱固定設置于所述第一電機(15)的輸出軸上，兩個所述第一絲桿(13)位于所述殼體(14)內部的一端與第二皮帶輪(17)固定連接，所述第一皮帶輪(16)和第二皮帶輪(17)之間通過皮帶(18)傳動連接，所述刮壁機構包括第二電機(19)、第二絲桿(20)、移動塊(21)和鏟板(22)，所述第二電機(19)固定設置于所述反應腔(2)的右側壁頂部，所述第二絲桿(20)呈橫向位于所述反應腔(2)的內部上側，且第二絲桿(20)的兩端均通過第二滾動軸承分別與反應腔(2)的左右內側壁轉動連接，所述第二絲桿(20)的右端貫穿至所述反應腔(2)的外部并與所述第二電機(19)的輸出端固定連接，所述移動塊(21)的側壁通過第二螺紋孔與所述第二絲桿(20)的桿壁螺紋設置，所述鏟板(22)呈豎直固定設置于所述移動塊(21)的上側，且鏟板(22)的上側與所述腔蓋(3)的下表面接觸設置，所述第二絲桿(20)的下方橫向設有限位滑桿(23)，所述限位滑桿(23)的兩端分別與所述反應腔(2)的左右內側壁固定連接，所述移動塊(21)的側壁通過限位滑孔與所述限位滑桿(23)的桿壁滑動連接。

2.根據權利要求1所述的MOCVD沉積物的清理裝置，其特征在于，所述底座(1)的表面左側固定設有支撐塊(24)，所述支撐塊(24)的上表面與所述反應臺(6)的下表面接觸設置。

3.根據權利要求1所述的MOCVD沉積物的清理裝置，其特征在于，所述反應腔(2)的右內側壁固定設有第一導料板(25)，所述第一導料板(25)的下側延伸至所述沉積物收集槽的內部。

4.根據權利要求1所述的MOCVD沉積物的清理裝置，其特征在于，所述沉積物收集槽的內部固定設有傾斜設置的第二導料板(26)，所述第二導料板(26)呈左高右低設置。

5.根據權利要求1所述的MOCVD沉積物的清理裝置，其特征在于，所述反應腔(2)的左內側壁且位于所述反應臺(6)的上方固定設有傾斜設置的第三導料板(27)。