[發(fā)明專利]一種顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011292623.2 | 申請(qǐng)日： | 2020-11-18 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112327545A | 公開（公告）日： | 2021-02-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳鵬;張新霞;呂鳳珍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/1343 | 分類號(hào)： | G02F1/1343 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人： | 李迎亞;姜春咸 |
| 地址： | 230012 *** | 國(guó)省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置，其包括陣列排布的多個(gè)子像素；其中，所述顯示裝置包括：相對(duì)設(shè)置的陣列基板和對(duì)置基板，以及設(shè)置在二者之間的液晶層；
所述陣列基板包括：第一基底，以及所述多個(gè)子像素中的每個(gè)的第一電極和第二電極；其中，所述第一電極和所述第二電極設(shè)置在所述第一基底靠近所述液晶層的一側(cè)；
所述對(duì)置基板包括：第二基底，以及所述多個(gè)子像素中的每個(gè)的干擾電極；其中，所述干擾電極設(shè)置在所述第二基底靠近所述液晶層的一側(cè)，且每個(gè)所述子像素的干擾電極與其第二電極在所述基底上的正投影至少部分重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中，所述子像素中的第一電極為板狀電極，所述第二電極為狹縫電極；且所述第一電極和所述第二電極在沿背離所述第一基底的方向上依次設(shè)置；所述狹縫電極包括主體部和開口部；其中，
所述子像素中的所述干擾電極在所述第一基底上的正投影，與所述狹縫電極的主體部在所述第一基底上的正投影至少部分重疊，與所述狹縫電極的開口部在所述第一基底上的正投影無重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中，每個(gè)所述子像素中的所述主體部包括多個(gè)子主體部、第一連接部和第二連接部；所述多個(gè)子主體部間隔設(shè)置，且所述多個(gè)子主體部的第一端通過所述第一連接部相連，所述多個(gè)子主體部的第二端通過所述第二連接部相連；
每個(gè)所述子像素中的所述干擾電極包括多個(gè)子干擾電極；其中，
所述子干擾電極與所述子主體部一一對(duì)應(yīng)設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中，每個(gè)所述子像素中的所述主體部包括多個(gè)子主體部、第一連接部和第二連接部；所述多個(gè)子主體部間隔設(shè)置，且所述多個(gè)子主體部的第一端通過所述第一連接部相連，所述多個(gè)子主體部的第二端通過所述第二連接部相連；
每個(gè)所述子像素中的所述干擾電極包括多個(gè)子干擾電極；其中，
一個(gè)所述子干擾電極與一個(gè)所述子主體部對(duì)應(yīng)設(shè)置，且任意兩個(gè)所述子干擾電極在所述第一基底上的正投影之間，設(shè)置有一個(gè)所述子主體部。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中，每個(gè)所述子像素中的所述主體部包括多個(gè)子主體部、第一連接部和第二連接部；所述多個(gè)子主體部間隔設(shè)置，且所述多個(gè)子主體部的第一端通過所述第一連接部相連，所述多個(gè)子主體部的第二端通過所述第二連接部相連；
每個(gè)所述子像素中的所述干擾電極包括一個(gè)子干擾電極；其中，
所述子干擾電極與所述多個(gè)子主體部中位于中間的子主體部對(duì)應(yīng)設(shè)置。
6.據(jù)權(quán)利要求3-5任一所述的顯示裝置，其中，所述子主體部所述第一基底上的正投影，位于與之對(duì)應(yīng)的所述子干擾電極在所述第一基底上的正投影內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求3-5任一所述的顯示裝置，其中，所述子主體部為條形電極；所述子干擾電極為條形電極，且所述子主體部的延伸方向，與所述子干擾電極的延伸方向相同。
8.據(jù)權(quán)利要求3-5任一所述的顯示裝置，其中，還包括至少一個(gè)支撐結(jié)構(gòu)，所述支撐結(jié)構(gòu)與所述子干擾電極一一對(duì)應(yīng)設(shè)置，所述支撐結(jié)構(gòu)位于所述子干擾電極與所述第二基底之間。
9.據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置，其中，所述支撐結(jié)構(gòu)與所述子干擾電極一體成型。
10.據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置，其中，所述對(duì)置基板還包括黑矩陣，設(shè)置在每個(gè)所述子像素之間；
所述支撐結(jié)構(gòu)與所述黑矩陣一體成型。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中，所述子像素中的第一電極包括多個(gè)子第一電極，所述第二電極包括多個(gè)子第二電極；所述子第一電極和所述子第二電極交錯(cuò)設(shè)置且同層設(shè)置；其中，
所述子像素中的所述干擾電極在所述第一基底上的正投影，與所述子第一電極和/或所述子第二電極在所述第一基底上的正投影至少部分重疊。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
