[發(fā)明專利]一種化工工業(yè)儀器清潔裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011290042.5
• 申請日: 2020-11-18
• 公開（公告）號: CN112517454A
• 公開（公告）日: 2021-03-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃德隆
• 申請（專利權(quán)）人: 黃德隆
• 主分類號: B08B1/00
• 分類號: B08B1/00;B08B3/08;B08B13/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，包括裝置外殼(1)，其特征在于：所述裝置外殼(1)內(nèi)部下方安裝有轉(zhuǎn)動座(2)，所述轉(zhuǎn)動座(2)上方設(shè)置有儀器放置架(3)，所述儀器放置架(3)表面開設(shè)有通孔，所述裝置外殼(1)邊側(cè)設(shè)置有清洗劑裝載罐(5)，所述清洗劑裝載罐(5)底部通過導(dǎo)管與裝置外殼(1)連通，所述裝置外殼(1)頂部開設(shè)有頂部放置口(4)，所述儀器放置架(3)內(nèi)部中間的位置設(shè)置有內(nèi)清理裝置(6)，所述儀器放置架(3)內(nèi)部靠下的位置安裝有裝置固定盤(7)；

所述裝置固定盤(7)包括盤體(71)，所述盤體(71)內(nèi)部開設(shè)有儀器放置盤孔(72)，所述儀器放置盤孔(72)內(nèi)部均設(shè)置有彈性卡位片(73)，所述儀器放置盤孔(72)設(shè)置為若干個(gè)的不同直徑的內(nèi)孔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，其特征在于：所述轉(zhuǎn)動座(2)包括內(nèi)盤體(21)，所述內(nèi)盤體(21)表面開設(shè)有滑槽(22)，所述滑槽(22)內(nèi)部安裝有復(fù)位彈簧桿(23)，所述復(fù)位彈簧桿(23)遠(yuǎn)離內(nèi)盤體(21)中心的位置設(shè)置有活動端子(24)，所述內(nèi)盤體(21)中心開設(shè)有槽孔(25)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，其特征在于：所述滑槽(22)遠(yuǎn)離內(nèi)盤體(21)中心的一端內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有接電卡位片(26)，所述接電卡位片(26)外側(cè)設(shè)置有接電端子(27)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，其特征在于：所述滑槽(22)、復(fù)位彈簧桿(23)和活動端子(24)設(shè)置有三組，且沿著內(nèi)盤體(21)的中心軸線均勻設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，其特征在于：所述內(nèi)清理裝置(6)包括清理架(61)，所述清理架(61)內(nèi)側(cè)一端固定連接有磁極固定端(62)，所述清理架(61)內(nèi)側(cè)遠(yuǎn)離磁極固定端(62)的一側(cè)通過彈簧桿(63)安裝有活動磁極桿(64)，所述磁極固定端(62)和活動磁極桿(64)外側(cè)均設(shè)置有清理頭(65)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，其特征在于：所述清理架(61)內(nèi)側(cè)固定連接有支撐內(nèi)架(66)，所述支撐內(nèi)架(66)靠近活動磁極桿(64)的一側(cè)設(shè)置有加速端子觸點(diǎn)(67)，所述活動磁極桿(64)位于加速端子觸點(diǎn)(67)的一側(cè)設(shè)置有啟動端子(68)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，其特征在于：所述清理頭(65)包括清理外端子(651)和內(nèi)支撐組件(653)，所述清理外端子(651)和內(nèi)支撐組件(653)底端設(shè)置有安裝座(652)，所述清理外端子(651)內(nèi)部凸起的位置設(shè)置有清理復(fù)位裝置(8)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種化工工業(yè)儀器清潔裝置，其特征在于：所述清理復(fù)位裝置(8)包括支撐外架(81)和彈性外架(82)，所述支撐外架(81)與彈性外架(82)之間的通過球形連接件(83)，所述支撐外架(81)與彈性外架(82)的弧形內(nèi)側(cè)之間安裝有弧形彈性片(84)，所述弧形彈性片(84)外側(cè)安裝有清理滾子(85)。