[發明專利]一種自干擾消除方法及裝置

有效

• 申請號: 202011289525.3
• 申請日: 2020-11-17
• 公開（公告）號: CN112491442B
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發明（設計）人: 唐燕群;魏璽章;伍哲舜;黃海風;賴濤;王青松;王小青
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: H04B1/525
• 分類號: H04B1/525;G06N3/04;G06N3/08
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 陳旭紅;吳落

1.一種自干擾消除方法，其特征在于，包括：

t時刻獲取基帶信號x(t)，將所述基帶信號x(t)導入輸入層和卷積層的訓練模型得到輸出信號，所述訓練模型包括：在所述輸入層引入三維張量，在所述卷積層設置復數卷積層結構；其中，在所述輸入層引入三維張量包括：所述基帶信號x(t)，分為實部和虛部；根據所述實部和虛部構建三維張量，所述三維張量還包括原始數據的樣本量和記憶長度；將所述三維張量輸入所述卷積層，完成所述訓練模型，得到輸出信號；

將所述輸出信號輸入LSTM層，所述LSTM層用于處理帶有時序的序列，輸出結果至全連接層，所述全連接層用于對所述輸出結果進行數據的維度變換，得到維度變換結果；

根據所述維度變換結果輸入至輸出層，所述輸出層輸出兩個神經元。

2.根據權利要求1所述的一種自干擾消除方法，其特征在于，所述在所述卷積層設置復數卷積層結構，包括：

所述基帶信號x(t)，所述輸入層分為實部輸入層和虛部輸入層；

根據所述實部輸入層和虛部輸入層，分別輸入所述卷積層進行復卷積，得到實部復卷積層和虛部復卷積層，再進行級聯，完成所述訓練模型，得到輸出信號。

3.根據權利要求2所述的一種自干擾消除方法，其特征在于，所述根據所述實部和虛部，分別輸入所述卷積層進行復卷積，得到實部復卷積層和虛部復卷積層，再進行級聯，完成所述訓練模型，得到輸出信號，還包括：

所述復卷積，如下：

其中，x,y分別代表樣本實部虛部，A,B代表復卷積核。

4.一種自干擾消除裝置，其特征在于，包括：

卷積模塊，根據t時刻獲取基帶信號x(t)，將所述基帶信號x(t)導入輸入層和卷積層的訓練模型得到輸出信號；所述卷積模塊，包括第一子模塊，第二子模塊，所述第一子模塊包括，在所述輸入層引入三維張量，所述第二子模塊包括，在所述卷積層設置復數卷積層結構；其中，在所述輸入層引入三維張量包括：所述基帶信號x(t)，分為實部和虛部；根據所述實部和虛部構建三維張量，所述三維張量還包括原始數據的樣本量和記憶長度；將所述三維張量輸入所述卷積層，完成所述訓練模型，得到輸出信號；

處理模塊，將所述輸出信號輸入LSTM層，所述LSTM層用于處理帶有時序的序列，輸出結果至全連接層，所述全連接層用于對所述輸出結果進行數據的維度變換，得到維度變換結果；

輸出模塊，根據所述維度變換結果輸入至輸出層，所述輸出層輸出兩個神經元。

5.根據權利要求4所述的一種自干擾消除裝置，其特征在于，所述第二子模塊，包括：

所述基帶信號x(t)，所述輸入層分為實部輸入層和虛部輸入層；

根據所述實部輸入層和虛部輸入層，分別輸入所述卷積層進行復卷積，得到實部復卷積層和虛部復卷積層，再進行級聯，完成所述訓練模型，得到輸出信號。

6.根據權利要求5所述的一種自干擾消除裝置，其特征在于，所述第二子模塊，還包括：

所述復卷積，如下：

其中，x,y分別代表樣本實部虛部，A,B代表復卷積核。