[發明專利]一種用于多晶硅還原爐的啟動裝置在審
| 申請號: | 202011289051.2 | 申請日: | 2020-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN112194137A | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發明(設計)人: | 趙云松;王清華;陳文吉;楊濤 | 申請(專利權)人: | 新疆大全新能源股份有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/021 | 分類號: | C01B33/021 |
| 代理公司: | 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 孟阿妮;張小勇 |
| 地址: | 832000 新疆維吾爾自治區石*** | 國省代碼: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 多晶 還原 啟動 裝置 | ||
本發明涉及多晶硅生產技術領域,尤其涉及一種用于多晶硅還原爐的啟動裝置,其包括:支撐體、微波發生器和控制機構;支撐體上設置有行走機構,用于支撐支撐體移動;支撐體上設置有機械臂;微波發生器設置在機械臂上,能夠被機械臂驅動移動;微波發生器上具有發射口;發射口用于與還原爐的視鏡口對應;控制機構設置在支撐體上,與微波發生器連接,用于控制微波發生器;控制機構與機械臂連接,用于控制機械臂;控制機構上設置有水管,用于冷卻水的進出;水管上具有活接頭;控制機構上設置氣流口,用于充入空氣;氣流口上具有快速接頭;控制機構上設置電源線纜,用于與電源連接。采用本發明能夠減少啟動時間,提升生產效率。
技術領域
本發明涉及多晶硅生產技術領域,尤其涉及一種用于多晶硅還原爐的啟動裝置。
背景技術
多晶硅生產中的硅芯屬于半導體,在常溫下的電阻率非常高,隨著溫度的變化很顯著,而且隨著溫度的上升,它的電阻率逐漸減少,即導電能力逐漸增強。多晶硅的生產,首先需要啟動,使高阻值硅芯預熱、導電、升溫,然后再進行還原沉積、生長。
現有技術中啟動主要有兩種方案,一是為克服硅芯棒的冷電阻,對純硅芯棒加上高電壓使電流強行通過硅芯棒,隨著溫度升高,電阻率逐漸下降,達到一定溫度后再轉入中、低控制電源,即高壓啟動。此種方式比較直接,但其缺點是高壓電控制設備比較復雜,加熱啟動程序也比較復雜,導致生產成本大幅度上升;而且,高壓擊穿受限于電極絕緣,其電壓不能升高(一般只能控制在3500~7500V),造成啟動時間長(平均在3小時左右),嚴重影響還原爐在線時間而減少產量。不僅增加了啟動電耗,并且電絕緣經常會被擊穿,增加了維護工作量和檢修成本。二是采用石墨加熱、等離子加熱、鹵素燈加熱等外加熱方式,將還原爐爐溫加熱至300℃左右,還原電源輸出中壓,使硅芯導通,完成啟動過程;然后繼續加熱進行化學氣相沉積,完成還原生長;此方式啟動,操作麻煩、啟動時間長、效率低、啟動成功率低、影響硅純度、還原設備復雜等弊端。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種用于多晶硅還原爐的啟動裝置,主要目的在于減少啟動時間,提升生產效率。
為達到上述目的,本發明主要提供如下技術方案:
本發明的實施例提供一種用于多晶硅還原爐的啟動裝置,包括:支撐體、微波發生器和控制機構;
所述支撐體上設置有行走機構,用于支撐所述支撐體移動;
所述支撐體上設置有機械臂;
所述微波發生器設置在所述機械臂上,能夠被所述機械臂驅動移動;所述微波發生器上具有發射口;所述發射口用于與還原爐的視鏡口對應;
所述控制機構設置在所述支撐體上,與所述微波發生器連接,用于控制所述微波發生器;
所述控制機構與機械臂連接,用于控制所述機械臂;
所述控制機構上設置有水管,用于冷卻水的進出;所述水管上具有活接頭;
所述控制機構上設置氣流口,用于充入空氣;所述氣流口上具有快速接頭;
所述控制機構上設置電源線纜,用于與電源連接。
進一步地,還包括:驅動機構;
所述驅動機構與所述行走機構連接,用于驅動所述行走機構;
所述驅動機構與所述控制機構連接,用于控制所述驅動機構。
進一步地,所述發射口上設置有防護構件。
進一步地,所述防護構件為玻璃材質。
進一步地,所述發射口的外壁上設置有隔熱材料。
進一步地,所述水管為軟管。
進一步地,所述發射口為圓臺結構。
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