[發(fā)明專利]一種化學(xué)反應(yīng)器及其應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011288929.0 | 申請日: | 2020-11-17 |
| 公開(公告)號: | CN112426986B | 公開(公告)日: | 2022-08-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馬少華;龐鑫龍;趙浩然;曹遠雄;邢新會 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué)深圳國際研究生院 |
| 主分類號: | B01J19/12 | 分類號: | B01J19/12 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 張建珍 |
| 地址: | 518055 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 化學(xué) 反應(yīng)器 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種化學(xué)反應(yīng)器,其特征在于,包括基層和光敏涂層;所述光敏涂層覆設(shè)于所述基層的一表面,所述光敏涂層由光敏材料制得,所述光敏材料在白光照射下激發(fā)氧氣產(chǎn)生單線態(tài)氧;所述單線態(tài)氧可穿過所述基層;所述光敏材料選自PT、PTTzT、PBT3中的至少一種;
所述PT的結(jié)構(gòu)式為:;
所述PTTzT的結(jié)構(gòu)式為:;
所述PBT3的結(jié)構(gòu)式為:;
所述化學(xué)反應(yīng)器用于單線態(tài)氧參與的有機化合物合成,且在使用時合成原料配成的反應(yīng)液噴涂于所述基層上背離所述光敏涂層的一側(cè)表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)反應(yīng)器,其特征在于,所述基層為紙基層、尼龍膜層、玻璃纖維膜層中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1至2中任一項所述的化學(xué)反應(yīng)器,其特征在于,還包括阻隔層,所述阻隔層設(shè)于所述基層上背離所述光敏涂層的一側(cè)表面,用于阻隔會損壞所述基層和/或所述光敏涂層的物質(zhì),且單線態(tài)氧可穿過所述阻隔層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)反應(yīng)器,其特征在于,所述會損壞所述基層和/或所述光敏涂層的物質(zhì)包括可溶解所述光敏涂層的溶劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)反應(yīng)器,其特征在于,所述阻隔層的材料為聚四氟乙烯、聚
6.權(quán)利要求1至5中任一項所述的化學(xué)反應(yīng)器在單線態(tài)氧參與的有機化合物合成中的應(yīng)用。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的應(yīng)用,所述單線態(tài)氧參與的有機化合物合成包括C-H活化反應(yīng)合成有機化合物、C-H官能化合成共軛聚合物、亞砜類化合物的合成、苯并噻吩類化合物的合成、苯并呋喃類化合物的合成中的至少一種。
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