[發明專利]一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備

在審

• 申請號: 202011288815.6
• 申請日: 2020-11-17
• 公開（公告）號: CN112358324A
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 趙明賢
• 申請（專利權）人: 趙明賢
• 主分類號: C04B41/87
• 分類號: C04B41/87;C04B35/52
• 代理公司: 杭州西木子知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33325
• 代理人: 李開騰

1.一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備，包括反應釜(2)，所述反應釜(2)的頂部開口設置，且其頂部設置有升降的艙蓋(21)，其特征在于，還包括：

石墨化罐組(3)，所述石墨化罐組(3)設置于所述反應釜(2)的底部，其內部設置有用于盛裝配比好的Si與SiO₂的粉末混合物的容腔(31)，該容腔(31)的四周等距設置有若干的與所述容腔(31)底部連通的進氣通道(32)，且該容腔(31)的上部設置有連通的排氣管道(33)；

涂層平臺(4)，所述涂層平臺(4)安裝于所述石墨化罐組(3)的正上方，其正對所述排氣管道(33)的排氣口設置，該涂層平臺(4)上放置石墨工件(10)；

鼓風機構(5)，所述鼓風機構(5)安裝于所述涂層平臺(4)的上方，其安裝于所述艙蓋(21)上，其對所述進氣通道(32)鼓入氣體，使所述石墨化罐組(3)內生成的SiO氣體通過所述排氣管道(33)排送到所述石墨工件(10)處。

2.根據權利要求1所述的一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備，其特征在于，所述石墨化罐組(3)包括內膽(34)、外膽(35)與封蓋(36)，所述內膽(34)內部設置有容腔(31)，所述內膽(34)及所述外膽(35)之間設置有所述進氣通道(32)，所述封蓋(36)罩設于所述內膽(34)的頂部，所述排氣管道(33)穿設與所述封蓋(36)上。

3.根據權利要求2所述的一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備，其特征在于，所述進氣通道(32)與所述容腔(31)的連通位置處設置有進氣閥組(37)，所述排氣管道(33)上設置有排氣閥組(38)，所述進氣閥組(37)及所述排氣閥組(38)均由所述鼓風機構(5)控制啟閉。

4.根據權利要求3所述的一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備，其特征在于，所述進氣閥組(37)包括集氣管(371)及進氣管(372)，所述集氣管(371)設置于所述外膽(35)的底部，其側壁與所述進氣通道(32)連通，且其頂部設置有半圓形的第一閥板(373)，所述進氣管(372)與所述集氣管(371)同軸設置，其旋轉安裝于所述內膽(34)上，且其與所述容腔(31)連通，該進氣管(372)的底部與所述集氣管(371)的頂部抵觸設置，且抵觸位置設置有與所述第一閥板(373)配合的呈半圓形設置的第二閥板(374)，所述進氣管(372)與所述排氣管道(33)一體連接設置，且連接部位隔斷設置。

5.根據權利要求3所述的一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備，其特征在于，所述排氣閥組(38)包括設置于所述排氣管道(33)頂部開口處呈半圓形設置的第一閥門板(381)及與所述排氣管道(33)同軸設置的排氣罩(382)，該排氣罩(382)的底部與所述排氣管道(33)抵觸位置處設置有于所述第一閥門板(381)配合的呈半圓形設置的第二閥門板(383)。

6.根據權利要求1所述的一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備，其特征在于，所述涂層平臺(4)與所述排氣管道(33)正對的位置處為網格設置，且該位置處架設有用于放置所述石墨工件(10)的放置架(41)，該放置架(41)鏤空設置。

7.根據權利要求3所述的一種石墨表層抗氧化SiC均勻循環涂層設備，其特征在于，所述鼓風機構(5)包括：

驅動電機(51)，所述驅動電機(51)安裝于所述艙蓋(21)上，其位于所述反應釜(2)的外部；

扇葉(52)，若干的所述扇葉(52)呈圓周等距排列于所述驅動電機(51)的四周，且其由所述驅動電機(51)通過安裝于所述艙蓋(21)上的行星齒輪組(53)驅動同步旋轉；以及

循環氣路管組(54)，所述循環氣路管組(54)安裝于所述艙蓋(21)與所述石墨化罐組(3)之間，其與所述進氣通道(32)一一對應連通設置，且其吸取所述涂層平臺(4)上的氣體導入至所述石墨化罐組(3)內，并將所述石墨化罐組(3)內的SiO氣體吹出。